Физика и техника полупроводников
RUS  ENG    ЖУРНАЛЫ   ПЕРСОНАЛИИ   ОРГАНИЗАЦИИ   КОНФЕРЕНЦИИ   СЕМИНАРЫ   ВИДЕОТЕКА   ПАКЕТ AMSBIB  
Общая информация
Последний выпуск
Архив
Правила для авторов

Поиск публикаций
Поиск ссылок

RSS
Последний выпуск
Текущие выпуски
Архивные выпуски
Что такое RSS



Физика и техника полупроводников:
Год:
Том:
Выпуск:
Страница:
Найти






Персональный вход:
Логин:
Пароль:
Запомнить пароль
Войти
Забыли пароль?
Регистрация


Физика и техника полупроводников, 2019, том 53, выпуск 8, страница 1140
DOI: https://doi.org/10.21883/FTP.2019.08.48008.9113
(Mi phts5442)
 

Эта публикация цитируется в 3 научных статьях (всего в 3 статьях)

Физика полупроводниковых приборов

Sensing amorphous/crystalline silicon surface passivation by attenuated total reflection infrared spectroscopy of amorphous silicon on glass

S. N. Abolmasova, A. S. Abramovab, A. V. Semenova, I. S. Shahrayc, E. I. Terukovabd, E. V. Malchukovab, I. N. Trapeznikovab

a R&D Center of Thin Film Technologies in Energetics, St. Petersburg, Russia
b Ioffe Institute, St. Petersburg, Russia
c Hevel LLC, Moscow, Russia
d St. Petersburg Electrotechnical University, St. Petersburg, Russia
Аннотация: Attenuated total reflection Fourier transform infrared (ATR FTIR) spectroscopy and effective lifetime measurements have been used to characterize amorphous/crystalline silicon surface passivation in silicon heterojunction solar cells. The comparative studies show a strong link between microstructure factor $R^{*}$ and effective lifetime of amorphous silicon ($a$-Si : H) passivation layers incorporating an interface buffer layer, which prevents the epitaxial growth. It is demonstrated that thin $a$-Si : H films deposited on glass can be used as ATR substrates in this case. The obtained results show that $a$-Si : H films with $R^{*}$ close to 0.1 are required for manufacturing of high-efficiency ($>$ 23%) silicon heterojunction solar cells.
Поступила в редакцию: 01.03.2019
Исправленный вариант: 01.03.2019
Принята в печать: 25.03.2019
Англоязычная версия:
Semiconductors, 2019, Volume 53, Issue 8, Pages 1114–1119
DOI: https://doi.org/10.1134/S1063782619080244
Реферативные базы данных:
Тип публикации: Статья
Язык публикации: английский
Образец цитирования: S. N. Abolmasov, A. S. Abramov, A. V. Semenov, I. S. Shahray, E. I. Terukov, E. V. Malchukova, I. N. Trapeznikova, “Sensing amorphous/crystalline silicon surface passivation by attenuated total reflection infrared spectroscopy of amorphous silicon on glass”, Физика и техника полупроводников, 53:8 (2019), 1140; Semiconductors, 53:8 (2019), 1114–1119
Цитирование в формате AMSBIB
\RBibitem{AboAbrSem19}
\by S.~N.~Abolmasov, A.~S.~Abramov, A.~V.~Semenov, I.~S.~Shahray, E.~I.~Terukov, E.~V.~Malchukova, I.~N.~Trapeznikova
\paper Sensing amorphous/crystalline silicon surface passivation by attenuated total reflection infrared spectroscopy of amorphous silicon on glass
\jour Физика и техника полупроводников
\yr 2019
\vol 53
\issue 8
\pages 1140
\mathnet{http://mi.mathnet.ru/phts5442}
\crossref{https://doi.org/10.21883/FTP.2019.08.48008.9113}
\elib{https://elibrary.ru/item.asp?id=41129847}
\transl
\jour Semiconductors
\yr 2019
\vol 53
\issue 8
\pages 1114--1119
\crossref{https://doi.org/10.1134/S1063782619080244}
Образцы ссылок на эту страницу:
  • https://www.mathnet.ru/rus/phts5442
  • https://www.mathnet.ru/rus/phts/v53/i8/p1140
  • Эта публикация цитируется в следующих 3 статьяx:
    Citing articles in Google Scholar: Russian citations, English citations
    Related articles in Google Scholar: Russian articles, English articles
    Физика и техника полупроводников Физика и техника полупроводников
    Статистика просмотров:
    Страница аннотации:45
    PDF полного текста:13
     
      Обратная связь:
     Пользовательское соглашение  Регистрация посетителей портала  Логотипы © Математический институт им. В. А. Стеклова РАН, 2024