Наноструктурированные покрытия ITO/SiO$_{2}$

В настоящей работе изучалось влияние слоя SiO$_{2}$, нанесенного на наноструктурированные прозрачные проводящие пленки оксида индия и олова (ITO), на их оптические характеристики. Для этого на образцы с пленками ITO, содержащими нитевидные кристаллы преимущественно вертикальной ориентации и обладающими монотонно убывающим эффективным показателем преломления, наносили слои SiO$_{2}$ различной толщины методом магнетронного распыления. Показано, что при условии равномерного заращивания нитей ITO слоем SiO$_{2}$ становится возможным достичь заметного просветления покрытия. Исследовалось также влияние слоя SiO$_{2}$ на оптические характеристики плотной, неструктурированной пленки ITO. Проведено сравнение полученных результатов для структурированного и неструктурированного покрытия ITO/SiO$_{2}$ с одинаковым массовым содержанием материала. Отмечено, что вследствие склонности материала ITO к деградации в процессе эксплуатации в составе прозрачных проводящих контактов результаты работы могут быть интересны также для создания более стойких к воздействию внешней среды покрытий.