|
Физика полупроводниковых приборов
Высоковольтные светодиодные кристаллы AlInGaN
Л. К. Марковa, М. В. Кукушкинa, А. С. Павлюченкоa, И. П. Смирноваa, Г. В. Иткинсонb, О. В. Осиповb a Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук, г. Санкт-Петербург
b ЗАО «Инновационная фирма "ИРСЭТ-Центр"», Санкт-Петербург, Россия
Аннотация:
Разработан и изготовлен высоковольтный светодиодный кристалл флип-чип конструкции на основе гетероструктуры AlInGaN, состоящий из 16 последовательно соединенных элементов, каждый из которых представляет собой стандартный светоизлучающий диод. При общей площади 1.25 $\times$ 1.25 мм кристалл рассчитан на рабочий ток 20 мА, падение напряжения на рабочем токе составляет 48 В. Для повышения однородности распределения тока по активной области элементов кристалла, а также минимизации потерь площади элементов, занятой $n$-контактом, $n$-контактные площадки в них размещены внутри области $p$-контакта благодаря двухуровневой схеме расположения металлизации с промежуточным изолирующим слоем диэлектрика. Топология расположения контактных площадок разрабатывалась с привлечением численного моделирования. Повышение квантового выхода кристалла обеспечивается применением комбинаций металлов с высоким коэффициентом отражения света на длине волны излучения светодиода, используемых при создании $n$- и $p$-контактов, а также токопроводящих полос.
Ключевые слова:
светоизлучающий диод, светоизлучающий кристалл, флип-чип конструкция, высоковольтный кристалл, нитрид галлия.
Поступила в редакцию: 30.05.2019 Исправленный вариант: 08.06.2019 Принята в печать: 10.06.2019
Образец цитирования:
Л. К. Марков, М. В. Кукушкин, А. С. Павлюченко, И. П. Смирнова, Г. В. Иткинсон, О. В. Осипов, “Высоковольтные светодиодные кристаллы AlInGaN”, Физика и техника полупроводников, 53:11 (2019), 1562–1567; Semiconductors, 53:11 (2019), 1529–1534
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/phts5365 https://www.mathnet.ru/rus/phts/v53/i11/p1562
|
|