Физика и техника полупроводников
RUS  ENG    ЖУРНАЛЫ   ПЕРСОНАЛИИ   ОРГАНИЗАЦИИ   КОНФЕРЕНЦИИ   СЕМИНАРЫ   ВИДЕОТЕКА   ПАКЕТ AMSBIB  
Общая информация
Последний выпуск
Архив
Правила для авторов

Поиск публикаций
Поиск ссылок

RSS
Последний выпуск
Текущие выпуски
Архивные выпуски
Что такое RSS


Физика и техника полупроводников:
Год:
Том:
Выпуск:
Страница:
Найти




Персональный вход:
Логин:
Пароль:
Запомнить пароль
Войти
Забыли пароль?
Регистрация

Физика и техника полупроводников, 2019, том 53, выпуск 11, страницы 1497–1504
DOI: https://doi.org/10.21883/FTP.2019.11.48444.9110 (Mi phts5354) 		 
Поверхность, границы раздела, тонкие пленки

Влияние ионно-лучевой обработки в процессе ВЧ магнетронного распыления на свойства плeнок ZnO

П. Н. Крылов, С. С. Алалыкин, Е. А. Дурман, Р. М. Закирова, И. В. Федотова

Удмуртский государственный университет, г. Ижевск
PDF полного текста (1457 kB)
DOI: https://doi.org/10.21883/FTP.2019.11.48444.9110
Аннотация: Рассмотрено влияние ионно-лучевой обработки, чередующейся с процессом магнетронного напыления, на свойства тонких пленок оксида цинка. Ионно-лучевая обработка вызывает уменьшение скорости роста, размеров областей когерентного рассеяния и удельного сопротивления. Стехиометрический индекс, ширина запрещенной зоны и показатель преломления увеличиваются. Прозрачность пленок в области слабого поглощения не меняется.
Ключевые слова: ионно-лучевая обработка, оксид цинка, магнетронное распыление.
Поступила в редакцию: 21.03.2019
Исправленный вариант: 07.06.2019
Принята в печать: 17.06.2019
Англоязычная версия:
Semiconductors, 2019, Volume 53, Issue 11, Pages 1457–1464
DOI: https://doi.org/10.1134/S1063782619110095
Реферативные базы данных:
Тип публикации: Статья
Образец цитирования: П. Н. Крылов, С. С. Алалыкин, Е. А. Дурман, Р. М. Закирова, И. В. Федотова, “Влияние ионно-лучевой обработки в процессе ВЧ магнетронного распыления на свойства плeнок ZnO”, Физика и техника полупроводников, 53:11 (2019), 1497–1504; Semiconductors, 53:11 (2019), 1457–1464
Цитирование в формате AMSBIB
\RBibitem{KriAlaDur19}
\by П.~Н.~Крылов, С.~С.~Алалыкин, Е.~А.~Дурман, Р.~М.~Закирова, И.~В.~Федотова
\paper Влияние ионно-лучевой обработки в процессе ВЧ магнетронного распыления на свойства плeнок ZnO
\jour Физика и техника полупроводников
\yr 2019
\vol 53
\issue 11
\pages 1497--1504
\mathnet{http://mi.mathnet.ru/phts5354}
\crossref{https://doi.org/10.21883/FTP.2019.11.48444.9110}
\elib{https://elibrary.ru/item.asp?id=41300648}
\transl
\jour Semiconductors
\yr 2019
\vol 53
\issue 11
\pages 1457--1464
\crossref{https://doi.org/10.1134/S1063782619110095}
Образцы ссылок на эту страницу:
  • https://www.mathnet.ru/rus/phts5354
  • https://www.mathnet.ru/rus/phts/v53/i11/p1497
    • Citing articles in Google Scholar: Russian citations, English citations
    Related articles in Google Scholar: Russian articles, English articles
    		Физика и техника полупроводников Физика и техника полупроводников
    Статистика просмотров:
    Страница аннотации:37
    PDF полного текста:17
     
      Обратная связь:
    		  Пользовательское соглашение  Регистрация посетителей портала  Логотипы © Математический институт им. В. А. Стеклова РАН, 2024