Физика и техника полупроводников
RUS  ENG    ЖУРНАЛЫ   ПЕРСОНАЛИИ   ОРГАНИЗАЦИИ   КОНФЕРЕНЦИИ   СЕМИНАРЫ   ВИДЕОТЕКА   ПАКЕТ AMSBIB  
Общая информация
Последний выпуск
Архив
Правила для авторов

Поиск публикаций
Поиск ссылок

RSS
Последний выпуск
Текущие выпуски
Архивные выпуски
Что такое RSS



Физика и техника полупроводников:
Год:
Том:
Выпуск:
Страница:
Найти






Персональный вход:
Логин:
Пароль:
Запомнить пароль
Войти
Забыли пароль?
Регистрация


Физика и техника полупроводников, 2019, том 53, выпуск 12, страницы 1681–1685
DOI: https://doi.org/10.21883/FTP.2019.12.48627.9151
(Mi phts5335)
 

Эта публикация цитируется в 1 научной статье (всего в 1 статье)

Углеродные системы

Краевое легирование в графеновых приборах на подложках SiO$_{2}$

Г. Ю. Васильеваa, Д. Смирновb, Ю. Б. Васильевa, А. А. Грешновa, R. J. Haugb

a Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук, г. Санкт-Петербург
b Institut fur Festkorperphysik, Leibniz Universitat Hannover, Hannover, Germany
Аннотация: Экспериментально изучена проводимость лент монослойного и двухслойного графена шириной 0.5–4 мкм, изготовленных методом плазменного травления в кислороде. Обнаружена зависимость концентрации электронов в графене от ширины ленты. Этот эффект объясняется краевым легированием графена за счет дефектов, расположенных в SiO$_{2}$ вблизи краев ленты. Предложен способ формирования резких $p$$n$-переходов в графене и структур с постоянным градиентом концентрации электронов в плоскости графена с помощью краевого легирования.
Ключевые слова: графен, краевое легирование, подложка, дефекты, плазменное травление.
Финансовая поддержка Номер гранта
Российский научный фонд 17-72-10134
Г.Ю. Васильева выполнила экспериментальные измерения при поддержке РНФ (грант 17-72-10134).
Поступила в редакцию: 29.04.2019
Исправленный вариант: 06.05.2019
Принята в печать: 06.05.2019
Англоязычная версия:
Semiconductors, 2019, Volume 53, Issue 12, Pages 1672–1676
DOI: https://doi.org/10.1134/S1063782619160292
Реферативные базы данных:
Тип публикации: Статья
Образец цитирования: Г. Ю. Васильева, Д. Смирнов, Ю. Б. Васильев, А. А. Грешнов, R. J. Haug, “Краевое легирование в графеновых приборах на подложках SiO$_{2}$”, Физика и техника полупроводников, 53:12 (2019), 1681–1685; Semiconductors, 53:12 (2019), 1672–1676
Цитирование в формате AMSBIB
\RBibitem{VasSmiVas19}
\by Г.~Ю.~Васильева, Д.~Смирнов, Ю.~Б.~Васильев, А.~А.~Грешнов, R.~J.~Haug
\paper Краевое легирование в графеновых приборах на подложках SiO$_{2}$
\jour Физика и техника полупроводников
\yr 2019
\vol 53
\issue 12
\pages 1681--1685
\mathnet{http://mi.mathnet.ru/phts5335}
\crossref{https://doi.org/10.21883/FTP.2019.12.48627.9151}
\elib{https://elibrary.ru/item.asp?id=41848197}
\transl
\jour Semiconductors
\yr 2019
\vol 53
\issue 12
\pages 1672--1676
\crossref{https://doi.org/10.1134/S1063782619160292}
Образцы ссылок на эту страницу:
  • https://www.mathnet.ru/rus/phts5335
  • https://www.mathnet.ru/rus/phts/v53/i12/p1681
  • Эта публикация цитируется в следующих 1 статьяx:
    Citing articles in Google Scholar: Russian citations, English citations
    Related articles in Google Scholar: Russian articles, English articles
    Физика и техника полупроводников Физика и техника полупроводников
    Статистика просмотров:
    Страница аннотации:39
    PDF полного текста:11
     
      Обратная связь:
     Пользовательское соглашение  Регистрация посетителей портала  Логотипы © Математический институт им. В. А. Стеклова РАН, 2024