Физика и техника полупроводников
RUS  ENG    ЖУРНАЛЫ   ПЕРСОНАЛИИ   ОРГАНИЗАЦИИ   КОНФЕРЕНЦИИ   СЕМИНАРЫ   ВИДЕОТЕКА   ПАКЕТ AMSBIB  
Общая информация
Последний выпуск
Архив
Правила для авторов

Поиск публикаций
Поиск ссылок

RSS
Последний выпуск
Текущие выпуски
Архивные выпуски
Что такое RSS



Физика и техника полупроводников:
Год:
Том:
Выпуск:
Страница:
Найти






Персональный вход:
Логин:
Пароль:
Запомнить пароль
Войти
Забыли пароль?
Регистрация


Физика и техника полупроводников, 2020, том 54, выпуск 1, страницы 65–68
DOI: https://doi.org/10.21883/FTP.2020.01.48776.9240
(Mi phts5308)
 

Эта публикация цитируется в 2 научных статьях (всего в 2 статьях)

Физика полупроводниковых приборов

Оптимизация толщины слоя In$_{0.3}$Ga$_{0.7}$As в трехкаскадном In$_{0.3}$Ga$_{0.7}$As/GaAs/In$_{0.5}$Ga$_{0.5}$P солнечном элементе

Д. М. Леган, О. П. Пчеляков, В. В. Преображенский

Институт физики полупроводников им. А. В. Ржанова СО РАН, г. Новосибирск
Аннотация: С помощью программного пакета для приборно-технологического моделирования “Sentaurus TCAD” производился поиск оптимальной толщины поглощающего слоя нижнего каскада In$_{0.3}$Ga$_{0.7}$As трехкаскадного In$_{0.3}$Ga$_{0.7}$As/GaAs/In$_{0.5}$Ga$_{0.5}$P солнечного элемента в зависимости от времени жизни неосновных носителей заряда в этом слое. Величина времени жизни задавалась в диапазоне от 17 пс до 53 нс. Результаты расчета показали, что в зависимости от величины времени жизни оптимальная толщина принимает различные значения в диапазоне от 0.9 до 7.5 мкм. Также была проведена оценка вклада в кпд данного трехкаскадного солнечного элемента от нижнего In$_{0.3}$Ga$_{0.7}$As каскада. При различных значениях времен жизни, его величина составила от 1 до 7%.
Ключевые слова: численное моделирование, оптимальная толщина, солнечный элемент, In$_{0.3}$Ga$_{0.7}$As, Sentaurus TCAD.
Финансовая поддержка Номер гранта
Министерство образования и науки Российской Федерации 0306-2016-0011
0306-2018-0011
Российский фонд фундаментальных исследований 16-29-03292
Работа выполнена в рамках ГЗ 0306-2016-0011, 0306-2018-0011 и при поддержке гранта РФФИ № 16-29-03292.
Поступила в редакцию: 09.08.2019
Исправленный вариант: 12.08.2019
Принята в печать: 12.08.2019
Англоязычная версия:
Semiconductors, 2020, Volume 54, Issue 1, Pages 108–111
DOI: https://doi.org/10.1134/S1063782620010133
Реферативные базы данных:
Тип публикации: Статья
Образец цитирования: Д. М. Леган, О. П. Пчеляков, В. В. Преображенский, “Оптимизация толщины слоя In$_{0.3}$Ga$_{0.7}$As в трехкаскадном In$_{0.3}$Ga$_{0.7}$As/GaAs/In$_{0.5}$Ga$_{0.5}$P солнечном элементе”, Физика и техника полупроводников, 54:1 (2020), 65–68; Semiconductors, 54:1 (2020), 108–111
Цитирование в формате AMSBIB
\RBibitem{LegPchPre20}
\by Д.~М.~Леган, О.~П.~Пчеляков, В.~В.~Преображенский
\paper Оптимизация толщины слоя In$_{0.3}$Ga$_{0.7}$As в трехкаскадном In$_{0.3}$Ga$_{0.7}$As/GaAs/In$_{0.5}$Ga$_{0.5}$P солнечном элементе
\jour Физика и техника полупроводников
\yr 2020
\vol 54
\issue 1
\pages 65--68
\mathnet{http://mi.mathnet.ru/phts5308}
\crossref{https://doi.org/10.21883/FTP.2020.01.48776.9240}
\elib{https://elibrary.ru/item.asp?id=42571072}
\transl
\jour Semiconductors
\yr 2020
\vol 54
\issue 1
\pages 108--111
\crossref{https://doi.org/10.1134/S1063782620010133}
Образцы ссылок на эту страницу:
  • https://www.mathnet.ru/rus/phts5308
  • https://www.mathnet.ru/rus/phts/v54/i1/p65
  • Эта публикация цитируется в следующих 2 статьяx:
    Citing articles in Google Scholar: Russian citations, English citations
    Related articles in Google Scholar: Russian articles, English articles
    Физика и техника полупроводников Физика и техника полупроводников
    Статистика просмотров:
    Страница аннотации:42
    PDF полного текста:16
     
      Обратная связь:
     Пользовательское соглашение  Регистрация посетителей портала  Логотипы © Математический институт им. В. А. Стеклова РАН, 2024