|
Эта публикация цитируется в 2 научных статьях (всего в 2 статьях)
Физика полупроводниковых приборов
Оптимизация толщины слоя In$_{0.3}$Ga$_{0.7}$As в трехкаскадном In$_{0.3}$Ga$_{0.7}$As/GaAs/In$_{0.5}$Ga$_{0.5}$P солнечном элементе
Д. М. Леган, О. П. Пчеляков, В. В. Преображенский Институт физики полупроводников им. А. В. Ржанова СО РАН, г. Новосибирск
Аннотация:
С помощью программного пакета для приборно-технологического моделирования “Sentaurus TCAD” производился поиск оптимальной толщины поглощающего слоя нижнего каскада In$_{0.3}$Ga$_{0.7}$As трехкаскадного In$_{0.3}$Ga$_{0.7}$As/GaAs/In$_{0.5}$Ga$_{0.5}$P солнечного элемента в зависимости от времени жизни неосновных носителей заряда в этом слое. Величина времени жизни задавалась в диапазоне от 17 пс до 53 нс. Результаты расчета показали, что в зависимости от величины времени жизни оптимальная толщина принимает различные значения в диапазоне от 0.9 до 7.5 мкм. Также была проведена оценка вклада в кпд данного трехкаскадного солнечного элемента от нижнего In$_{0.3}$Ga$_{0.7}$As каскада. При различных значениях времен жизни, его величина составила от 1 до 7%.
Ключевые слова:
численное моделирование, оптимальная толщина, солнечный элемент, In$_{0.3}$Ga$_{0.7}$As, Sentaurus TCAD.
Поступила в редакцию: 09.08.2019 Исправленный вариант: 12.08.2019 Принята в печать: 12.08.2019
Образец цитирования:
Д. М. Леган, О. П. Пчеляков, В. В. Преображенский, “Оптимизация толщины слоя In$_{0.3}$Ga$_{0.7}$As в трехкаскадном In$_{0.3}$Ga$_{0.7}$As/GaAs/In$_{0.5}$Ga$_{0.5}$P солнечном элементе”, Физика и техника полупроводников, 54:1 (2020), 65–68; Semiconductors, 54:1 (2020), 108–111
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/phts5308 https://www.mathnet.ru/rus/phts/v54/i1/p65
|
Статистика просмотров: |
Страница аннотации: | 42 | PDF полного текста: | 16 |
|