Физика и техника полупроводников
RUS  ENG    ЖУРНАЛЫ   ПЕРСОНАЛИИ   ОРГАНИЗАЦИИ   КОНФЕРЕНЦИИ   СЕМИНАРЫ   ВИДЕОТЕКА   ПАКЕТ AMSBIB  
Общая информация
Последний выпуск
Архив
Правила для авторов

Поиск публикаций
Поиск ссылок

RSS
Последний выпуск
Текущие выпуски
Архивные выпуски
Что такое RSS



Физика и техника полупроводников:
Год:
Том:
Выпуск:
Страница:
Найти






Персональный вход:
Логин:
Пароль:
Запомнить пароль
Войти
Забыли пароль?
Регистрация


Физика и техника полупроводников, 2020, том 54, выпуск 3, страницы 275–279
DOI: https://doi.org/10.21883/FTP.2020.03.49032.9284
(Mi phts5264)
 

Эта публикация цитируется в 2 научных статьях (всего в 2 статьях)

Физика полупроводниковых приборов

Двойная лавинная инжекция в диодных лавинных обострителях

М. С. Иванов, Н. И. Подольская, П. Б. Родин

Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук, г. Санкт-Петербург
Аннотация: Проведено численное моделирование пикосекундных диодных лавинных обострителей в режиме коммутации быстронарастающих высоковольтных импульсов субмикросекундной длительности. Показано, что максимальная длительность коммутируемого импульса ограничена физическими явлениями, связанными с переходом структуры в режим двойной лавинной инжекции, а не с восстановлением блокирующей способности диода вследствие дрейфового рассасывания неравновесной электронно-дырочной плазмы, как это имеет место в низкочастотных силовых диодах. Двойная лавинная инжекция в принципе способна поддерживать структуру диодного обострителя в проводящем состоянии после переключения. Однако отрицательное дифференциальное сопротивление, имеющее место в этом режиме, влечет за собой неустойчивость однородного токораспределения и изотермическое шнурование тока.
Ключевые слова: ударная ионизация, субнаносекундные переключатели, лавинная инжекция, токовые неустойчивости.
Финансовая поддержка Номер гранта
Российский фонд фундаментальных исследований 17-08-01559
Работа поддержана грантом РФФИ № 17-08-01559.
Поступила в редакцию: 14.10.2019
Исправленный вариант: 22.10.2019
Принята в печать: 22.10.2019
Англоязычная версия:
Semiconductors, 2020, Volume 54, Issue 3, Pages 345–349
DOI: https://doi.org/10.1134/S1063782620030100
Реферативные базы данных:
Тип публикации: Статья
Образец цитирования: М. С. Иванов, Н. И. Подольская, П. Б. Родин, “Двойная лавинная инжекция в диодных лавинных обострителях”, Физика и техника полупроводников, 54:3 (2020), 275–279; Semiconductors, 54:3 (2020), 345–349
Цитирование в формате AMSBIB
\RBibitem{IvaPodRod20}
\by М.~С.~Иванов, Н.~И.~Подольская, П.~Б.~Родин
\paper Двойная лавинная инжекция в диодных лавинных обострителях
\jour Физика и техника полупроводников
\yr 2020
\vol 54
\issue 3
\pages 275--279
\mathnet{http://mi.mathnet.ru/phts5264}
\crossref{https://doi.org/10.21883/FTP.2020.03.49032.9284}
\elib{https://elibrary.ru/item.asp?id=42776681}
\transl
\jour Semiconductors
\yr 2020
\vol 54
\issue 3
\pages 345--349
\crossref{https://doi.org/10.1134/S1063782620030100}
Образцы ссылок на эту страницу:
  • https://www.mathnet.ru/rus/phts5264
  • https://www.mathnet.ru/rus/phts/v54/i3/p275
  • Эта публикация цитируется в следующих 2 статьяx:
    Citing articles in Google Scholar: Russian citations, English citations
    Related articles in Google Scholar: Russian articles, English articles
    Физика и техника полупроводников Физика и техника полупроводников
    Статистика просмотров:
    Страница аннотации:64
    PDF полного текста:29
     
      Обратная связь:
     Пользовательское соглашение  Регистрация посетителей портала  Логотипы © Математический институт им. В. А. Стеклова РАН, 2024