|
Эта публикация цитируется в 2 научных статьях (всего в 2 статьях)
Физика полупроводниковых приборов
Двойная лавинная инжекция в диодных лавинных обострителях
М. С. Иванов, Н. И. Подольская, П. Б. Родин Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук, г. Санкт-Петербург
Аннотация:
Проведено численное моделирование пикосекундных диодных лавинных обострителей в режиме коммутации быстронарастающих высоковольтных импульсов субмикросекундной длительности. Показано, что максимальная длительность коммутируемого импульса ограничена физическими явлениями, связанными с переходом структуры в режим двойной лавинной инжекции, а не с восстановлением блокирующей способности диода вследствие дрейфового рассасывания неравновесной электронно-дырочной плазмы, как это имеет место в низкочастотных силовых диодах. Двойная лавинная инжекция в принципе способна поддерживать структуру диодного обострителя в проводящем состоянии после переключения. Однако отрицательное дифференциальное сопротивление, имеющее место в этом режиме, влечет за собой неустойчивость однородного токораспределения и изотермическое шнурование тока.
Ключевые слова:
ударная ионизация, субнаносекундные переключатели, лавинная инжекция, токовые неустойчивости.
Поступила в редакцию: 14.10.2019 Исправленный вариант: 22.10.2019 Принята в печать: 22.10.2019
Образец цитирования:
М. С. Иванов, Н. И. Подольская, П. Б. Родин, “Двойная лавинная инжекция в диодных лавинных обострителях”, Физика и техника полупроводников, 54:3 (2020), 275–279; Semiconductors, 54:3 (2020), 345–349
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/phts5264 https://www.mathnet.ru/rus/phts/v54/i3/p275
|
Статистика просмотров: |
Страница аннотации: | 64 | PDF полного текста: | 29 |
|