|
Эта публикация цитируется в 2 научных статьях (всего в 2 статьях)
Физика полупроводниковых приборов
Исследование электростатической системы поверхности кристаллов AuNi/GaN диодов Шоттки методом зонда Кельвина атомно-силовой микроскопии
Н. А. Торховabc, В. А. Новиковc a АО "НИИПП", Томск, Россия
b Томский университет автоматизированных систем управления (ТУСУР)
c Национальный исследовательский Томский государственный университет
Аннотация:
Атомно-силовые микроскопические исследования электростатической системы поверхности кристаллов плоских AuNi/$n$–$n^{+}$-GaN диодов Шоттки показали, что значение работы выхода электронов с поверхности металлических контактов Шоттки зависит от их линейного размера – диаметра $D$. При $D>$ 120 мкм значение работы выхода центральной области контактов приближается к значению работы выхода сплошной металлической пленки золота $e\varphi_{\mathrm{Au}}\approx$ 5.40 эВ. Уменьшение диаметра приводит к уменьшению работы выхода до 5.34 эВ для $D$ = 120 мкм, 5.21 эВ для $D$ = 40 мкм, 5.18 эВ для $D$ = 10 мкм и 5.14 эВ для $D$ = 5 мкм. Наблюдаемое уменьшение значений работы выхода с уменьшением диаметра связано с увеличивающимся влиянием встроенного электростатического поля периферии $\mathbf{E}_{l}$, которое определяется площадью и периметром контактов Шоттки. Принципиальные отличия термодинамических и электростатических систем омических TiAlNiAu/$n^{+}$-GaN-контактов (в отличие от аналогичных систем AuNi/$n$-GaN-контактов Шоттки) указывают на отсутствие в них барьера Шоттки и преобладающую роль термоэмиссионного механизма переноса подвижных носителей электрических зарядов.
Ключевые слова:
нитрид галлия, барьер Шоттки, омический контакт, электростатическое поле периферии, размерный эффект, метод зонда Кельвина АСМ.
Поступила в редакцию: 03.07.2019 Исправленный вариант: 20.09.2019 Принята в печать: 21.10.2019
Образец цитирования:
Н. А. Торхов, В. А. Новиков, “Исследование электростатической системы поверхности кристаллов AuNi/GaN диодов Шоттки методом зонда Кельвина атомно-силовой микроскопии”, Физика и техника полупроводников, 54:3 (2020), 266–274; Semiconductors, 54:3 (2020), 337–344
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/phts5263 https://www.mathnet.ru/rus/phts/v54/i3/p266
|
|