|
Эта публикация цитируется в 4 научных статьях (всего в 4 статьях)
Полупроводниковые структуры, низкоразмерные системы, квантовые явления
Электронные свойства пленок силицена, подвергнутых нейтронному легированию
А. Е. Галашевab, А. С. Воробьевa a Институт высокотемпературной электрохимии УРО РАН, Екатеринбург, Россия
b Уральский федеральный университет им. первого Президента России Б. Н. Ельцина, г. Екатеринбург
Аннотация:
Радиационное легирование фосфором монокристаллического кремния сохраняет структуру образца, снижает внутренние напряжения, повышает время жизни неосновных носителей заряда. Настоящая работа посвящена исследованию влияния добавок фосфора на электронные свойства силицена. Квантово-механическим методом рассчитаны спектры плотности электронных состояний легированного фосфором однослойного и двухслойного силицена 2 $\times$ 2 на графитовой подложке. Присутствие углеродной подложки придает силицену проводниковые свойства вследствие $p$–$p$-гибридизации. Легирование фосфором может сохранить или изменить приобретенные силиценом металлические свойства. Местоположение легирующих атомов фосфора в силицене влияет на прохождение перехода полупроводник–проводник. Теоретическая удельная емкость легированного фосфором силиценового электрода снижается, и он становится менее эффективным для применения в литий-ионных батареях. Однако увеличение проводимости этого материала способствует его использованию в качестве солнечных элементов.
Ключевые слова:
графит, силицен, фосфор, электронные состояния.
Поступила в редакцию: 02.09.2019 Исправленный вариант: 28.01.2020 Принята в печать: 29.01.2020
Образец цитирования:
А. Е. Галашев, А. С. Воробьев, “Электронные свойства пленок силицена, подвергнутых нейтронному легированию”, Физика и техника полупроводников, 54:6 (2020), 533–541; Semiconductors, 54:6 (2020), 641–649
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/phts5217 https://www.mathnet.ru/rus/phts/v54/i6/p533
|
Статистика просмотров: |
Страница аннотации: | 57 | PDF полного текста: | 25 |
|