|
Изготовление, обработка, тестирование материалов и структур
Имплантация ионов кремния в сапфир: малые дозы
Н. Е. Белова, С. Г. Шемардов, С. С. Фанченко, Е. А. Головкова, О. А. Кондратьев Национальный исследовательский центр "Курчатовский институт", г. Москва
Аннотация:
В результате ионной имплантации ионов кремния в сапфир и последующего высокотемпературного отжига в приповерхностной области сапфира наблюдаются преципитаты кремния и алюмосиликатов. Рентгеновские измерения методом сканирования обратного пространства показали наличие напряжения сжатия с деформацией -0.12% в нормальном направлении и напряжения растяжения с деформацией 0.2% в $R$-плоскости в этой области, что уменьшает несоответствие параметра решетки по отношению к кремнию (100) и может привести к повышению кристаллического качества эпитаксиальных пленок кремния, выращенных на таких модифицированных сапфировых подложках.
Ключевые слова:
ионная имплантация, сапфир, наночастицы, преципитаты, рентгеновская дифрактометрия, рефлектометрия.
Поступила в редакцию: 08.04.2020 Исправленный вариант: 16.04.2020 Принята в печать: 16.04.2020
Образец цитирования:
Н. Е. Белова, С. Г. Шемардов, С. С. Фанченко, Е. А. Головкова, О. А. Кондратьев, “Имплантация ионов кремния в сапфир: малые дозы”, Физика и техника полупроводников, 54:8 (2020), 766–770; Semiconductors, 54:8 (2020), 912–915
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/phts5193 https://www.mathnet.ru/rus/phts/v54/i8/p766
|
Статистика просмотров: |
Страница аннотации: | 41 | PDF полного текста: | 23 |
|