Физика и техника полупроводников
RUS  ENG    ЖУРНАЛЫ   ПЕРСОНАЛИИ   ОРГАНИЗАЦИИ   КОНФЕРЕНЦИИ   СЕМИНАРЫ   ВИДЕОТЕКА   ПАКЕТ AMSBIB  
Общая информация
Последний выпуск
Архив
Правила для авторов

Поиск публикаций
Поиск ссылок

RSS
Последний выпуск
Текущие выпуски
Архивные выпуски
Что такое RSS



Физика и техника полупроводников:
Год:
Том:
Выпуск:
Страница:
Найти






Персональный вход:
Логин:
Пароль:
Запомнить пароль
Войти
Забыли пароль?
Регистрация


Физика и техника полупроводников, 2020, том 54, выпуск 8, страницы 766–770
DOI: https://doi.org/10.21883/FTP.2020.08.49648.9405
(Mi phts5193)
 

Изготовление, обработка, тестирование материалов и структур

Имплантация ионов кремния в сапфир: малые дозы

Н. Е. Белова, С. Г. Шемардов, С. С. Фанченко, Е. А. Головкова, О. А. Кондратьев

Национальный исследовательский центр "Курчатовский институт", г. Москва
Аннотация: В результате ионной имплантации ионов кремния в сапфир и последующего высокотемпературного отжига в приповерхностной области сапфира наблюдаются преципитаты кремния и алюмосиликатов. Рентгеновские измерения методом сканирования обратного пространства показали наличие напряжения сжатия с деформацией -0.12% в нормальном направлении и напряжения растяжения с деформацией 0.2% в $R$-плоскости в этой области, что уменьшает несоответствие параметра решетки по отношению к кремнию (100) и может привести к повышению кристаллического качества эпитаксиальных пленок кремния, выращенных на таких модифицированных сапфировых подложках.
Ключевые слова: ионная имплантация, сапфир, наночастицы, преципитаты, рентгеновская дифрактометрия, рефлектометрия.
Финансовая поддержка Номер гранта
Национальный исследовательский центр Курчатовский институт 1575
Работа выполнена при поддержке Национального исследовательского центра “Курчатовский институт” (приказ № 1575 от 16.07.2019).
Поступила в редакцию: 08.04.2020
Исправленный вариант: 16.04.2020
Принята в печать: 16.04.2020
Англоязычная версия:
Semiconductors, 2020, Volume 54, Issue 8, Pages 912–915
DOI: https://doi.org/10.1134/S1063782620080060
Реферативные базы данных:
Тип публикации: Статья
Образец цитирования: Н. Е. Белова, С. Г. Шемардов, С. С. Фанченко, Е. А. Головкова, О. А. Кондратьев, “Имплантация ионов кремния в сапфир: малые дозы”, Физика и техника полупроводников, 54:8 (2020), 766–770; Semiconductors, 54:8 (2020), 912–915
Цитирование в формате AMSBIB
\RBibitem{BelSheFan20}
\by Н.~Е.~Белова, С.~Г.~Шемардов, С.~С.~Фанченко, Е.~А.~Головкова, О.~А.~Кондратьев
\paper Имплантация ионов кремния в сапфир: малые дозы
\jour Физика и техника полупроводников
\yr 2020
\vol 54
\issue 8
\pages 766--770
\mathnet{http://mi.mathnet.ru/phts5193}
\crossref{https://doi.org/10.21883/FTP.2020.08.49648.9405}
\elib{https://elibrary.ru/item.asp?id=43800750}
\transl
\jour Semiconductors
\yr 2020
\vol 54
\issue 8
\pages 912--915
\crossref{https://doi.org/10.1134/S1063782620080060}
Образцы ссылок на эту страницу:
  • https://www.mathnet.ru/rus/phts5193
  • https://www.mathnet.ru/rus/phts/v54/i8/p766
  • Citing articles in Google Scholar: Russian citations, English citations
    Related articles in Google Scholar: Russian articles, English articles
    Физика и техника полупроводников Физика и техника полупроводников
    Статистика просмотров:
    Страница аннотации:41
    PDF полного текста:23
     
      Обратная связь:
     Пользовательское соглашение  Регистрация посетителей портала  Логотипы © Математический институт им. В. А. Стеклова РАН, 2024