Физика и техника полупроводников
RUS  ENG    ЖУРНАЛЫ   ПЕРСОНАЛИИ   ОРГАНИЗАЦИИ   КОНФЕРЕНЦИИ   СЕМИНАРЫ   ВИДЕОТЕКА   ПАКЕТ AMSBIB  
Общая информация
Последний выпуск
Архив
Правила для авторов

Поиск публикаций
Поиск ссылок

RSS
Последний выпуск
Текущие выпуски
Архивные выпуски
Что такое RSS



Физика и техника полупроводников:
Год:
Том:
Выпуск:
Страница:
Найти






Персональный вход:
Логин:
Пароль:
Запомнить пароль
Войти
Забыли пароль?
Регистрация


Физика и техника полупроводников, 2020, том 54, выпуск 8, страницы 753–765
DOI: https://doi.org/10.21883/FTP.2020.08.49647.9402
(Mi phts5192)
 

Эта публикация цитируется в 4 научных статьях (всего в 4 статьях)

Изготовление, обработка, тестирование материалов и структур

Взаимодействие фторуглерода с моноокисью кремния и процессы образования нанонитей SiC

Е. В. Астрова, В. П. Улин, А. В. Парфеньева, А. В. Нащекин, В. Н. Неведомский, М. В. Байдакова

Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук, г. Санкт-Петербург
Аннотация: При изучении процессов термической карбонизации моноокиси кремния в присутствии нестехиометрического монофторида углерода было обнаружено, что повышение температуры отжига смесей порошков SiO и CF$_{x}$ в квазизамкнутом объеме до 1000$^\circ$С и выше ведет к выделению нитевидных нанокристаллов SiC. Проведенные исследования показали, что параллельно с известным процессом кристаллизации нанонитей SiC в результате взаимодействия паров SiO с угарным газом в их образовании принимает участие неописанное ранее взаимодействие СО с газофазным дифторидом кремния SiF$_{2}$. При температурах ниже 1200$^\circ$С эта реакция оказывается доминирующей, давая наибольший вклад в выход нанонитей SiC.
Ключевые слова: образование нанонитей (вискеров) карбида кремния, моноокись кремния, фторуглерод, газофазный дифторид кремния.
Поступила в редакцию: 06.04.2020
Исправленный вариант: 12.04.2020
Принята в печать: 12.04.2020
Англоязычная версия:
Semiconductors, 2020, Volume 54, Issue 8, Pages 900–911
DOI: https://doi.org/10.1134/S1063782620080059
Реферативные базы данных:
Тип публикации: Статья
Образец цитирования: Е. В. Астрова, В. П. Улин, А. В. Парфеньева, А. В. Нащекин, В. Н. Неведомский, М. В. Байдакова, “Взаимодействие фторуглерода с моноокисью кремния и процессы образования нанонитей SiC”, Физика и техника полупроводников, 54:8 (2020), 753–765; Semiconductors, 54:8 (2020), 900–911
Цитирование в формате AMSBIB
\RBibitem{AstUliPar20}
\by Е.~В.~Астрова, В.~П.~Улин, А.~В.~Парфеньева, А.~В.~Нащекин, В.~Н.~Неведомский, М.~В.~Байдакова
\paper Взаимодействие фторуглерода с моноокисью кремния и процессы образования нанонитей SiC
\jour Физика и техника полупроводников
\yr 2020
\vol 54
\issue 8
\pages 753--765
\mathnet{http://mi.mathnet.ru/phts5192}
\crossref{https://doi.org/10.21883/FTP.2020.08.49647.9402}
\elib{https://elibrary.ru/item.asp?id=43800749}
\transl
\jour Semiconductors
\yr 2020
\vol 54
\issue 8
\pages 900--911
\crossref{https://doi.org/10.1134/S1063782620080059}
Образцы ссылок на эту страницу:
  • https://www.mathnet.ru/rus/phts5192
  • https://www.mathnet.ru/rus/phts/v54/i8/p753
  • Эта публикация цитируется в следующих 4 статьяx:
    Citing articles in Google Scholar: Russian citations, English citations
    Related articles in Google Scholar: Russian articles, English articles
    Физика и техника полупроводников Физика и техника полупроводников
    Статистика просмотров:
    Страница аннотации:49
    PDF полного текста:22
     
      Обратная связь:
     Пользовательское соглашение  Регистрация посетителей портала  Логотипы © Математический институт им. В. А. Стеклова РАН, 2024