|
Эта публикация цитируется в 11 научных статьях (всего в 11 статьях)
Поверхность, границы раздела, тонкие пленки
Исследование встроенных электрических полей на интерфейсе GaSe/GaAs методом спектроскопии фотоотражения
О. С. Комковa, С. А. Хахулинa, Д. Д. Фирсовa, П. С. Авдиенкоb, И. В. Седоваb, С. В. Сорокинb a Санкт-Петербургский государственный электротехнический университет «ЛЭТИ» им. В. И. Ульянова (Ленина)
b Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук, г. Санкт-Петербург
Аннотация:
При молекулярно-пучковой эпитаксии GaSe на подложках GaAs(001) на гетероинтерфейсе GaSe/GaAs возникают встроенные электрические поля, о наличии которых свидетельствуют наблюдаемые в спектрах фотоотражения осцилляции Франца–Келдыша. Различные значения напряженностей этих полей (от 9.8 до 17.6 кВ/см) могут быть связаны как с диффузией атомов Se в подложку (буферный слой) GaAs, так и c формированием при эпитаксиальном росте переходных субмонослоев. На интерфейсе структур, выращенных на подложках GaAs(111)B и GaAs(112), встроенные поля не наблюдаются, что может быть объяснено меньшей эффективностью проникновения Se в подложку с вышеуказанными ориентациями по сравнению с GaAs(001).
Ключевые слова:
GaSe, слоистые полупроводники, модуляционная оптическая спектроскопия, молекулярно-пучковая эпитаксия, фотоотражение.
Поступила в редакцию: 27.04.2020 Исправленный вариант: 20.05.2020 Принята в печать: 20.05.2020
Образец цитирования:
О. С. Комков, С. А. Хахулин, Д. Д. Фирсов, П. С. Авдиенко, И. В. Седова, С. В. Сорокин, “Исследование встроенных электрических полей на интерфейсе GaSe/GaAs методом спектроскопии фотоотражения”, Физика и техника полупроводников, 54:10 (2020), 1011–1017; Semiconductors, 54:10 (2020), 1198–1204
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/phts5132 https://www.mathnet.ru/rus/phts/v54/i10/p1011
|
|