Физика и техника полупроводников
RUS  ENG    ЖУРНАЛЫ   ПЕРСОНАЛИИ   ОРГАНИЗАЦИИ   КОНФЕРЕНЦИИ   СЕМИНАРЫ   ВИДЕОТЕКА   ПАКЕТ AMSBIB  
Общая информация
Последний выпуск
Архив
Правила для авторов

Поиск публикаций
Поиск ссылок

RSS
Последний выпуск
Текущие выпуски
Архивные выпуски
Что такое RSS



Физика и техника полупроводников:
Год:
Том:
Выпуск:
Страница:
Найти






Персональный вход:
Логин:
Пароль:
Запомнить пароль
Войти
Забыли пароль?
Регистрация


Физика и техника полупроводников, 2021, том 55, выпуск 4, страницы 373–387
DOI: https://doi.org/10.21883/FTP.2021.04.50743.9575
(Mi phts5060)
 

Эта публикация цитируется в 5 научных статьях (всего в 5 статьях)

Изготовление, обработка, тестирование материалов и структур

Формирование кремниевых нанокластеров при диспропорционировании моноокиси кремния

Д. А. Ложкина, Е. В. Астрова, Р. В. Соколов, Д. А. Кириленко, А. А. Левин, А. В. Парфеньева, В. П. Улин

Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук, Санкт-Петербург, Россия
Аннотация: Изучены процессы диспропорционирования твердофазной моноокиси кремния, сопровождающиеся формированием нанокристаллических преципитатов кремния в среде аморфного субоксида SiO$_{x}$ (исходный состав SiO$_{0.9}$). На основе данных рентгенодифракционного анализа и просвечивающей электронной микроскопии прослежена динамика изменения количества, концентрации и размера фазовых выделений кремния при увеличении температуры изохронного отжига от 800 до 1200$^\circ$C. Обнаружено, что при монотонном увеличении общей массы выделившегося кремния число центров его кристаллизации в единице объема немонотонно зависит от температуры. Определены энергия активации диффузии атомов кремния в матрице SiO$_{x}$, $E_{a1}$ = 1.64 эВ, и энергия активации их переноса из образовавшихся преципитатов в ростовую среду SiO$_{x}$, $E_{a2}$ = 2.38 эВ. Впервые выявлена анизотропная деформация кристаллитов кремния, выделяющихся в процессе диспропорционирования SiO. Это явление связывается с различием удельных объемов разделяющихся фаз и анизотропией скорости роста кремниевых преципитатов, формирующихся в твердой аморфной среде.
Ключевые слова: кремниевые нанокластеры, моноокись кремния, процесс диспропорционирования.
Финансовая поддержка Номер гранта
Министерство образования и науки Российской Федерации 0040-2019-0012
Работа проводилась в рамках государственного задания по теме 0040-2019-0012.
Поступила в редакцию: 15.12.2020
Исправленный вариант: 21.12.2020
Принята в печать: 21.12.2020
Англоязычная версия:
Semiconductors, 2021, Volume 55, Issue 4, Pages 423–437
DOI: https://doi.org/10.1134/S1063782621040096
Реферативные базы данных:
Тип публикации: Статья
Образец цитирования: Д. А. Ложкина, Е. В. Астрова, Р. В. Соколов, Д. А. Кириленко, А. А. Левин, А. В. Парфеньева, В. П. Улин, “Формирование кремниевых нанокластеров при диспропорционировании моноокиси кремния”, Физика и техника полупроводников, 55:4 (2021), 373–387; Semiconductors, 55:4 (2021), 423–437
Цитирование в формате AMSBIB
\RBibitem{LozAstSok21}
\by Д.~А.~Ложкина, Е.~В.~Астрова, Р.~В.~Соколов, Д.~А.~Кириленко, А.~А.~Левин, А.~В.~Парфеньева, В.~П.~Улин
\paper Формирование кремниевых нанокластеров при диспропорционировании моноокиси кремния
\jour Физика и техника полупроводников
\yr 2021
\vol 55
\issue 4
\pages 373--387
\mathnet{http://mi.mathnet.ru/phts5060}
\crossref{https://doi.org/10.21883/FTP.2021.04.50743.9575}
\elib{https://elibrary.ru/item.asp?id=46474718}
\transl
\jour Semiconductors
\yr 2021
\vol 55
\issue 4
\pages 423--437
\crossref{https://doi.org/10.1134/S1063782621040096}
Образцы ссылок на эту страницу:
  • https://www.mathnet.ru/rus/phts5060
  • https://www.mathnet.ru/rus/phts/v55/i4/p373
  • Эта публикация цитируется в следующих 5 статьяx:
    Citing articles in Google Scholar: Russian citations, English citations
    Related articles in Google Scholar: Russian articles, English articles
    Физика и техника полупроводников Физика и техника полупроводников
    Статистика просмотров:
    Страница аннотации:66
    PDF полного текста:33
     
      Обратная связь:
     Пользовательское соглашение  Регистрация посетителей портала  Логотипы © Математический институт им. В. А. Стеклова РАН, 2024