Физика и техника полупроводников
RUS  ENG    ЖУРНАЛЫ   ПЕРСОНАЛИИ   ОРГАНИЗАЦИИ   КОНФЕРЕНЦИИ   СЕМИНАРЫ   ВИДЕОТЕКА   ПАКЕТ AMSBIB  
Общая информация
Последний выпуск
Архив
Правила для авторов

Поиск публикаций
Поиск ссылок

RSS
Последний выпуск
Текущие выпуски
Архивные выпуски
Что такое RSS



Физика и техника полупроводников:
Год:
Том:
Выпуск:
Страница:
Найти






Персональный вход:
Логин:
Пароль:
Запомнить пароль
Войти
Забыли пароль?
Регистрация


Физика и техника полупроводников, 2021, том 55, выпуск 5, страницы 427–433
DOI: https://doi.org/10.21883/FTP.2021.05.50831.9598
(Mi phts5037)
 

Эта публикация цитируется в 1 научной статье (всего в 1 статье)

Поверхность, границы раздела, тонкие пленки

Изотипные гетероструктуры $n$-AlGaAs/$n$-GaAs, оптимизированные для эффективной межзонной излучательной рекомбинации при накачке электрическим током

О. С. Соболева, С. О. Слипченко, Н. А. Пихтин

Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук, Санкт-Петербург, Россия
Аннотация: Проведен анализ транспорта носителей заряда при накачке током изотипной AlGaAs/GaAs-гетероструктуры, оптимизированной для эффективной межзонной излучательной рекомбинации. Для анализа особенностей транспорта носителей заряда использовались модели: дрейф-диффузионная, дрейф-диффузионная с полевой зависимостью подвижности, а также энергетического баланса. Показано, что при низких токах уровень излучательной рекомбинации в активной области выше в модели энергетического баланса из-за более эффективного накопления носителей, генерируемых посредством ударной ионизации. Это объясняется наличием на гетерогранице эффекта “velocity overshoot”, возникающего из-за резкого изменения концентрации электронов и электрического поля на гетеропереходе, тогда как в дрейф-диффузионном приближении скорость дрейфа в данной области равна насыщенной, и наблюдается снижение потенциального барьера из-за накопления большой концентрации электронов вблизи гетероперехода. При токах $>$ 40 А уровень излучательной рекомбинации в активной области выше в дрейф-диффузионнном приближении, что объясняется более высокими значениями напряженности поля и темпа ударной ионизации в слое с доменом электрического поля. Продемонстрировано увеличение тока излучательной рекомбинации в активной области более чем на 50% до 13.5 А (при токе накачки 100 А) и максимальной внутренней квантовой эффективности до 16% (при токе 40 А) при уменьшении толщины слоя накопления неравновесных носителей заряда до 100 нм.
Ключевые слова: гетероструктуры, изотипные структуры, ударная ионизация, модель энергетического баланса, излучательная рекомбинация.
Финансовая поддержка Номер гранта
Российский фонд фундаментальных исследований 18-08-01130 А
Авторы благодарят за финансовую поддержку при проведении исследований Российский фонд фундаментальных исследований (проект № 18-08-01130 А).
Поступила в редакцию: 11.01.2021
Исправленный вариант: 18.01.2021
Принята в печать: 18.01.2021
Англоязычная версия:
Semiconductors, 2021, Volume 55, Pages s8–s13
DOI: https://doi.org/10.1134/S1063782621050158
Тип публикации: Статья
Образец цитирования: О. С. Соболева, С. О. Слипченко, Н. А. Пихтин, “Изотипные гетероструктуры $n$-AlGaAs/$n$-GaAs, оптимизированные для эффективной межзонной излучательной рекомбинации при накачке электрическим током”, Физика и техника полупроводников, 55:5 (2021), 427–433; Semiconductors, 55 (2021), s8–s13
Цитирование в формате AMSBIB
\RBibitem{SobSliPik21}
\by О.~С.~Соболева, С.~О.~Слипченко, Н.~А.~Пихтин
\paper Изотипные гетероструктуры $n$-AlGaAs/$n$-GaAs, оптимизированные для эффективной межзонной излучательной рекомбинации при накачке электрическим током
\jour Физика и техника полупроводников
\yr 2021
\vol 55
\issue 5
\pages 427--433
\mathnet{http://mi.mathnet.ru/phts5037}
\crossref{https://doi.org/10.21883/FTP.2021.05.50831.9598}
\transl
\jour Semiconductors
\yr 2021
\vol 55
\pages s8--s13
\crossref{https://doi.org/10.1134/S1063782621050158}
Образцы ссылок на эту страницу:
  • https://www.mathnet.ru/rus/phts5037
  • https://www.mathnet.ru/rus/phts/v55/i5/p427
  • Эта публикация цитируется в следующих 1 статьяx:
    Citing articles in Google Scholar: Russian citations, English citations
    Related articles in Google Scholar: Russian articles, English articles
    Физика и техника полупроводников Физика и техника полупроводников
    Статистика просмотров:
    Страница аннотации:88
    PDF полного текста:60
     
      Обратная связь:
     Пользовательское соглашение  Регистрация посетителей портала  Логотипы © Математический институт им. В. А. Стеклова РАН, 2024