|
Эта публикация цитируется в 5 научных статьях (всего в 5 статьях)
XXV Международный симпозиум "Нанофизика и наноэлектроника", Нижний Новгород, 9-12 марта 2021 г.
Замещение фосфора на поверхности InP(001) при отжиге в потоке мышьяка
Д. В. Дмитриевa, Д. А. Колосовскийab, Е. В. Федосенкоa, А. И. Тороповa, К. С. Журавлевab a Институт физики полупроводников им. А. В. Ржанова СО РАН, г. Новосибирск
b Новосибирский государственный университет
Аннотация:
Методом дифракции быстрых электронов на отражение in situ изучено изменение структуры и элементного состава поверхности epi-ready InP(001) подложки в потоке мышьяка в сверхвысоком вакууме. Показано, что в процессе отжига окисного слоя на поверхности формируется слой InP$_{1-x}$As$_{x}$, возникающий в процессе замещения фосфора мышьяком. Установлена зависимость степени замещения от температуры и времени отжига. При температуре отжига 480$^\circ$С степень замещения фосфора мышьяком в приповерхностном слое составляет 7%, при температуре 540$^\circ$С достигает 41%. Время отжига слабо влияет на степень замещения.
Ключевые слова:
фосфид индия, мышьяк, отжиг, замещение, дифракция.
Поступила в редакцию: 12.04.2021 Исправленный вариант: 19.04.2021 Принята в печать: 19.04.2021
Образец цитирования:
Д. В. Дмитриев, Д. А. Колосовский, Е. В. Федосенко, А. И. Торопов, К. С. Журавлев, “Замещение фосфора на поверхности InP(001) при отжиге в потоке мышьяка”, Физика и техника полупроводников, 55:10 (2021), 877–881; Semiconductors, 55:11 (2021), 823–837
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/phts4956 https://www.mathnet.ru/rus/phts/v55/i10/p877
|
Статистика просмотров: |
Страница аннотации: | 71 | PDF полного текста: | 38 |
|