|
Микро- и нанокристаллические, пористые, композитные полупроводники
Влияние быстрого термического отжига на распределение атомов азота в GaAsN/GaAs
А. А. Лазаренкоa, К. Ю. Шубинаa, Е. В. Никитинаab, Е. В. Пироговa, А. М. Мизеровa, М. С. Соболевa a Санкт-Петербургский национальный исследовательский академический университет имени Ж. И. Алфёрова
Российской академии наук, г. Санкт-Петербург
b Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук, г. Санкт-Петербург
Аннотация:
Исследуется влияние быстрого термического отжига тройных твердых растворов GaAs$_{1-x}$N$_{x}$/GaAs на распределение атомов азота в кристаллической решетке. Образцы исследуются методами фотолюминесценции и высокоразрешающей рентгеновской дифрактометрии. Из-за несоответствия размеров и электроотрицательности атомов азота и мышьяка, азот встраивается неравномерно в кристаллическую решетку GaAs. Показаны варианты расположения атомов азота в кристаллической решетке GaAs до и после быстрого термического отжига.
Ключевые слова:
разбавленные нитриды, гетероструктуры, молекулярно-пучковая эпитксия, арсенид галлия, азот.
Поступила в редакцию: 08.06.2021 Исправленный вариант: 21.06.2021 Принята в печать: 21.06.2021
Образец цитирования:
А. А. Лазаренко, К. Ю. Шубина, Е. В. Никитина, Е. В. Пирогов, А. М. Мизеров, М. С. Соболев, “Влияние быстрого термического отжига на распределение атомов азота в GaAsN/GaAs”, Физика и техника полупроводников, 55:11 (2021), 1077–1080
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/phts4944 https://www.mathnet.ru/rus/phts/v55/i11/p1077
|
Статистика просмотров: |
Страница аннотации: | 51 | PDF полного текста: | 15 |
|