|
ТЕХНИКА
Моделирование влияния инфракрасного излучения на фазовый состав покрытий диоксида кремния
А. Н. Купоa, В. В. Емельяновb, В. А. Емельяновc a Гомельский государственный университет имени Франциска Скорины
b Белорусский государственный университет информатики и радиоэлектроники, Минск
c ОАО «Интеграл», Минск
Аннотация:
Проведено математическое моделирование взаимодействия излучения ближнего инфракрасного (ИК) диапазона с покрытием диоксида кремния при длительности импульса $\tau = 0,05$–$0,5$ секунды и экспозиции $E = 0,1$–$1,0$ Дж/см$^2$. Дана оценка снижения скорости плазмохимического травления (ПХТ) SiO$_2$ покрытия за счёт повышения средней энергии связи в кристаллической решётке вследствие термической модификации фазового состава указанного покрытия.
Ключевые слова:
плазмохимическое травление, диоксид кремния, инфракрасное излучение, математическое моделирование.
Поступила в редакцию: 16.08.2023
Образец цитирования:
А. Н. Купо, В. В. Емельянов, В. А. Емельянов, “Моделирование влияния инфракрасного излучения на фазовый состав покрытий диоксида кремния”, ПФМТ, 2023, № 3(56), 64–68
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/pfmt920 https://www.mathnet.ru/rus/pfmt/y2023/i3/p64
|
|