|
ТЕХНИКА
Особенности реактивного магнетронного нанесения пленок оксида тантала при различных способах подачи газа в камеру
Х. Т. Доанa, Д. А. Голосовa, В. А. Бурдовицинb, С. М. Завадскийa, С. Н. Мельниковa a Белорусский государственный университет информатики и радиоэлектроники, Минск
b Томский государственный университет систем управления и радиоэлектроники, Томск
Аннотация:
Проведены исследования процессов реактивного магнетронного распыления Ta мишени в Ar/O$_2$ смеси газов. Установлены зависимости напряжения разряда, скорости нанесения и электрофизических характеристик пленок оксида тантала от способа газоподачи и концентрации кислорода в Ar/O$_2$ смеси газов. Установлено, что металлический, переходной и реактивный режим работы системы распыления определяются изменением скорости нанесения пленок. Независимо от способа подачи рабочих газов в камеру, начальное формирование диэлектрических пленок оксида тантала с низким оптическим поглощением наблюдается в переходном режиме работы системы.
Ключевые слова:
тонкие пленки, оксид тантала, реактивное магнетронное распыление, скорость нанесения, диэлектрические свойства.
Поступила в редакцию: 25.04.2022
Образец цитирования:
Х. Т. Доан, Д. А. Голосов, В. А. Бурдовицин, С. М. Завадский, С. Н. Мельников, “Особенности реактивного магнетронного нанесения пленок оксида тантала при различных способах подачи газа в камеру”, ПФМТ, 2022, № 3(52), 97–104
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/pfmt866 https://www.mathnet.ru/rus/pfmt/y2022/i3/p97
|
|