Фотоактивные свойства нанокомпозиционных покрытий ZnO$_{\text{x}}$ : MgO, осажденных в вакууме и методом золь-гель синтеза

Представлены результаты определения эффективности использования вакуумного осаждения и золь-гель синтеза при формировании нанокомпозиционных покрытий ZnO$_{\text{x}}$ : MgO с шириной запрещенной зоны большей 5 В и с высокой чувствительностью к УФ- и видимому излучению. Показано, что спектральная чувствительность гетероструктуры с шириной запрещенной зоны ZnO$_{\text{x}}$ : Mg порядка 6,2 эВ к УФ-излучению (278 нм) составила от 0,3 А/Вт до 3,23 А/Вт при смещении от 10 В до 14 В соответственно.