|
Проблемы физики, математики и техники, 2018, выпуск 4(37), страницы 25–29
(Mi pfmt599)
|
|
|
|
ФИЗИКА
Исследование приповерхностного нарушенного слоя в пластинах монокристаллического кремния после химико-механической полировки
Я. А. Косенок, В. Е. Гайшун, О. И. Тюленкова Гомельский государственный университет им. Ф. Скорины
Аннотация:
В процессе химико-механической полировки (ХМП) пластин монокристаллического кремния применяют суспензии на
основе наноразмерного диоксида кремния. Качество поверхности полупроводниковых подложек характеризуется шероховатостью и глубиной структурно нарушенного слоя. Методом комбинационного рассеяния света исследуется нарушенный слой и влияние шероховатости поверхности на интенсивность спектральных линий. Показано, что интенсивность основной рамановской моды кремния сильно зависит от шероховатости поверхности.
Ключевые слова:
комбинационное рассеяние света, шероховатость поверхности, наноразмерные частицы, нарушенный слой, химико-механическая полировка.
Поступила в редакцию: 06.11.2018
Образец цитирования:
Я. А. Косенок, В. Е. Гайшун, О. И. Тюленкова, “Исследование приповерхностного нарушенного слоя в пластинах монокристаллического кремния после химико-механической полировки”, ПФМТ, 2018, № 4(37), 25–29
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/pfmt599 https://www.mathnet.ru/rus/pfmt/y2018/i4/p25
|
Статистика просмотров: |
Страница аннотации: | 223 | PDF полного текста: | 287 | Список литературы: | 28 |
|