|
Проблемы физики, математики и техники, 2016, выпуск 2(27), страницы 12–17
(Mi pfmt435)
|
|
|
|
Эта публикация цитируется в 2 научных статьях (всего в 2 статьях)
ФИЗИКА
Формирование пленок нитрида титана методом реактивного магнетронного распыления при пониженном давлении
А. П. Достанко, Д. А. Голосов, С. М. Завадский, С. Н. Мельников, Д. Э. Окоджи, Д. Д. Котинго, Г. М. Рубан Белорусский государственный университет информатики и радиоэлектроники, Минск
Аннотация:
Проведены исследования процесса реактивного магнетронного распыления титана в среде Ar/N$_2$ рабочих газов при пониженном давлении. Установлено, что при высоковакуумном режиме работы магнетронной распылительной системы и высоких скоростях откачки в режиме стабилизации мощности разряда магнетрона напряжение разряда практически однозначно зависит от содержания реактивного газа в камере, т. е. отсутствует гистерезис характеристик, свойственный процессам реактивного распыления. При этом возможно воспроизводимое нанесение слоев нитрида титана c удельным сопротивлением менее 70 мкОм$\times$см и твердостью свыше 28 ГПа.
Ключевые слова:
реактивное магнетронное распыление, нитрид титана, микротвердость, коэффициент трения, объемный износ.
Поступила в редакцию: 15.04.2016
Образец цитирования:
А. П. Достанко, Д. А. Голосов, С. М. Завадский, С. Н. Мельников, Д. Э. Окоджи, Д. Д. Котинго, Г. М. Рубан, “Формирование пленок нитрида титана методом реактивного магнетронного распыления при пониженном давлении”, ПФМТ, 2016, № 2(27), 12–17
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/pfmt435 https://www.mathnet.ru/rus/pfmt/y2016/i2/p12
|
Статистика просмотров: |
Страница аннотации: | 375 | PDF полного текста: | 305 | Список литературы: | 32 |
|