Кинетика затухания теплового излучения поверхностных слоев углеродных материалов при импульсном лазерном возбуждении

Экспериментально и теоретически изучено затухание теплового излучения поверхностных слоев углеродных материалов при возбуждении импульсами неодимового лазера с модуляцией добротности. Обнаружено, что кривые затухания можно с удовлетворительной точностью аппроксимировать суммой двух экспоненциальных компонент с временами затухания порядка 10 и 100 ns. При облучении образцов последовательностью лазерных импульсов наблюдаемые изменения кривых затухания свечения можно представить как перераспределение интенсивности вышеупомянутых двух компонент. По результатам компьютерного моделирования сделан вывод, что время затухания свечения определяется отношением глубины проникновения лазерного излучения к длине тепловой диффузии, что открывает возможность для определения коэффициента температуропроводности исследуемого материала в тонком поверхностном слое при высоких температурах (тысячи Кельвинов).