|
Эта публикация цитируется в 1 научной статье (всего в 1 статье)
Голография
Совершенствование технологии изготовления рельефных голографических решеток на бихромированном желатине, облученных коротковолновым УФ излучением
Н. М. Ганжерлиa, С. Н. Гуляевb, И. А. Маурерa a Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук, г. Санкт-Петербург
b Санкт-Петербургский политехнический университет Петра Великого
Аннотация:
Предложен новый вариант изготовления высокочастотных голографических решеток с пространственной частотой вплоть до 1500 mm$^{-1}$ на слоях бихромированного желатина (БХЖ), из технологии обработки которого полностью исключены водные процедуры. Метод основан на применении ледяной уксусной кислоты после облучения слоев коротковолновым УФ излучением в отличие от стандартной методики обработки зарегистрированных когерентным излучением He–Cd-лазера голографических структур. В ходе экспериментов получены рельефно-фазовые голографические решетки с дифракционной эффективностью до 41% при толщине слоя БХЖ 1.1 $\mu$m и до 64%при 5.6 $\mu$m.
Ключевые слова:
голографические дифракционные решетки, бихромированный желатин, коротковолновое УФ излучение, поверхностный рельеф, дифракционная эффективность, ледяная уксусная кислота, изопропанол.
Поступила в редакцию: 12.05.2021 Исправленный вариант: 12.05.2021 Принята в печать: 09.06.2021
Образец цитирования:
Н. М. Ганжерли, С. Н. Гуляев, И. А. Маурер, “Совершенствование технологии изготовления рельефных голографических решеток на бихромированном желатине, облученных коротковолновым УФ излучением”, Оптика и спектроскопия, 129:10 (2021), 1276–1279; Optics and Spectroscopy, 130:13 (2022), 2011–2013
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/os45 https://www.mathnet.ru/rus/os/v129/i10/p1276
|
|