Наносистемы: физика, химия, математика
RUS  ENG    ЖУРНАЛЫ   ПЕРСОНАЛИИ   ОРГАНИЗАЦИИ   КОНФЕРЕНЦИИ   СЕМИНАРЫ   ВИДЕОТЕКА   ПАКЕТ AMSBIB  
Общая информация
Последний выпуск
Архив
Правила для авторов

Поиск публикаций
Поиск ссылок

RSS
Последний выпуск
Текущие выпуски
Архивные выпуски
Что такое RSS



Наносистемы: физика, химия, математика:
Год:
Том:
Выпуск:
Страница:
Найти






Персональный вход:
Логин:
Пароль:
Запомнить пароль
Войти
Забыли пароль?
Регистрация


Наносистемы: физика, химия, математика, 2021, том 12, выпуск 6, страницы 783–791
DOI: https://doi.org/10.17586/2220-8054-2021-12-6-783-791
(Mi nano1074)
 

CHEMISTRY AND MATERIAL SCIENCE

Study of the resistive switching and electrode degradation in Al/TiO$_2$/FTO thin films upon thermal treatment in reducing atmosphere

G. A. Illarionova, D. S. Kolchanova, V. V. Chrishtopa, I. A. Kasatkinb, A. V. Vinogradova, M. I. Morozova

a ITMO University, Kronverkskiy prosp., 49, St. Petersburg, 197101, Russia
b Saint Petersburg State University, Universitetskaya nab. 7-9, St. Petersburg, 199034, Russia
Аннотация: Application of sol-gel derived titania nanoparticles in memristive thin film devices has been a subject of several studies. The reported data on the functional properties and stability of such devices scatter considerably. Meanwhile, the role of post-fabrication treatment, such as annealing in reducing atmosphere, is still poorly investigated for this class of devices. In this study, the effects of thermal annealing in a reducing atmosphere on the resistive switching behavior and the morphological changes of the top electrode during the electroforming process have been systematically addressed for the samples of Al/TiO$_2$/FTO thin film memristors prepared using sol-gel derived titania. Manifestations of several phenomena affecting the functional stability of these thin films, such as electrode delamination and collapse due to formation of gas bubbles, appearance of electrochemical patterns at the electrode surface, and morphological changes induced by the electroforming process have been systematically established in relation with the various conditions of thermal treatment in a reducing atmosphere.
Ключевые слова: TiO$_2$, memristors, electrode degradation.
Финансовая поддержка Номер гранта
Российский научный фонд 19-19-00433
The research has been carried out with financial support from the Russian Science Foundation (Grant No. 19-19-00433).
Поступила в редакцию: 25.11.2021
Реферативные базы данных:
Тип публикации: Статья
Язык публикации: английский
Образец цитирования: G. A. Illarionov, D. S. Kolchanov, V. V. Chrishtop, I. A. Kasatkin, A. V. Vinogradov, M. I. Morozov, “Study of the resistive switching and electrode degradation in Al/TiO$_2$/FTO thin films upon thermal treatment in reducing atmosphere”, Наносистемы: физика, химия, математика, 12:6 (2021), 783–791
Цитирование в формате AMSBIB
\RBibitem{IllKolChr21}
\by G.~A.~Illarionov, D.~S.~Kolchanov, V.~V.~Chrishtop, I.~A.~Kasatkin, A.~V.~Vinogradov, M.~I.~Morozov
\paper Study of the resistive switching and electrode degradation in Al/TiO$_2$/FTO thin films upon thermal treatment in reducing atmosphere
\jour Наносистемы: физика, химия, математика
\yr 2021
\vol 12
\issue 6
\pages 783--791
\mathnet{http://mi.mathnet.ru/nano1074}
\crossref{https://doi.org/10.17586/2220-8054-2021-12-6-783-791}
\isi{https://gateway.webofknowledge.com/gateway/Gateway.cgi?GWVersion=2&SrcApp=Publons&SrcAuth=Publons_CEL&DestLinkType=FullRecord&DestApp=WOS_CPL&KeyUT=000752998100013}
\elib{https://elibrary.ru/item.asp?id=47578542}
Образцы ссылок на эту страницу:
  • https://www.mathnet.ru/rus/nano1074
  • https://www.mathnet.ru/rus/nano/v12/i6/p783
  • Citing articles in Google Scholar: Russian citations, English citations
    Related articles in Google Scholar: Russian articles, English articles
    Наносистемы: физика, химия, математика
    Статистика просмотров:
    Страница аннотации:65
    PDF полного текста:30
     
      Обратная связь:
     Пользовательское соглашение  Регистрация посетителей портала  Логотипы © Математический институт им. В. А. Стеклова РАН, 2024