|
Математическое моделирование, 1990, том 2, номер 1, страницы 56–75
(Mi mm2316)
|
|
|
|
Эта публикация цитируется в 1 научной статье (всего в 1 статье)
Математические модели явлений и процессов
Моделирование и оптимизация оптических схем установок фотолитографии
К. А. Валиевa, X. Зайфарт, Д. Р. Илькаевa, Т. М. Махвиладзеa a Физико-технологический институт АН СССР
Аннотация:
На основе детального рассмотрения критериев качества оптического изображения проводится
оптимизация апертуры источника излучения в установках контактной фотолитографии. Проводится анализ возможности увеличения глубины фокуса и методов подавления эффектов хроматической аберрации в проекционной литографии. Дается краткий обзор перспективных технологических методов.
Поступила в редакцию: 05.07.1989
Образец цитирования:
К. А. Валиев, X. Зайфарт, Д. Р. Илькаев, Т. М. Махвиладзе, “Моделирование и оптимизация оптических схем установок фотолитографии”, Матем. моделирование, 2:1 (1990), 56–75
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/mm2316 https://www.mathnet.ru/rus/mm/v2/i1/p56
|
Статистика просмотров: |
Страница аннотации: | 390 | PDF полного текста: | 292 | Список литературы: | 1 | Первая страница: | 2 |
|