|
Математическое моделирование, 1999, том 11, номер 4, страницы 49–58
(Mi mm1089)
|
|
|
|
Вторая международная конференция по неравновесным процессам в соплах и струях
Динамика изменения отражательной способности терморегулирующего покрытия при воздействии УФ излучения и атомарного кислорода
С. В. Цаплин, Е. В. Парахина Самарский государственный университет
Аннотация:
Рассматривается влияние УФ излучения на алюминиевое анодно-окисное покрытие (АОП) с учетом кинетики образования радиационных дефектов, радиационно-стимулированной диффузии атомарного кислорода и дефектов, эрозии материала, поглощения излучения на дефектах. В рамках модели тонкого приповерхностного слоя исследуется динамика изменения отражательной способности покрытия. В основе исследования лежат представления о механизме образования радиационных дефектов [1].
Образец цитирования:
С. В. Цаплин, Е. В. Парахина, “Динамика изменения отражательной способности терморегулирующего покрытия при воздействии УФ излучения и атомарного кислорода”, Матем. моделирование, 11:4 (1999), 49–58
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/mm1089 https://www.mathnet.ru/rus/mm/v11/i4/p49
|
Статистика просмотров: |
Страница аннотации: | 342 | PDF полного текста: | 166 | Первая страница: | 1 |
|