|
Журнал технической физики, 1987, том 57, выпуск 10, страницы 1957–1961
(Mi jtf927)
|
|
|
|
Управление плотностью эффективного поверхностного заряда в МДП
структуре с пленкой триоксида вольфрама
В. В. Кукуев, Е. А. Тутов, Э. П. Домашевская, М. В. Яновская, В. Е. Обвинцева, Ю. Н. Веневцев Научно-исследовательский физико-химический институт им. Л. Я. Карпова, Москва
Аннотация:
Определены плотность встроенного заряда и плотность
поверхностных состояний в МДП структуре с пленкой WO$_{3}$, полученной
конденсацией в вакууме и из растворов алкоголятов вольфрама. Показано, что этими
параметрами можно управлять термообработкой в вакууме или на воздухе. Увеличение
оптической плотности пленок триоксида вольфрама при термохромном процессе
сопровождается увеличением отрицательного встроенного заряда и плотности
поверхностных состояний.
Поступила в редакцию: 03.11.1986
Образец цитирования:
В. В. Кукуев, Е. А. Тутов, Э. П. Домашевская, М. В. Яновская, В. Е. Обвинцева, Ю. Н. Веневцев, “Управление плотностью эффективного поверхностного заряда в МДП
структуре с пленкой триоксида вольфрама”, ЖТФ, 57:10 (1987), 1957–1961
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/jtf927 https://www.mathnet.ru/rus/jtf/v57/i10/p1957
|
Статистика просмотров: |
Страница аннотации: | 61 | PDF полного текста: | 24 |
|