|
Журнал технической физики, 1987, том 57, выпуск 9, страницы 1746–1750
(Mi jtf875)
|
|
|
|
Плазма
Стационарный СВЧ источник плазмы
Г. Е. Гогиашвили, С. И. Нанобашвили, Г. И. Ростомашвили Институт физики АН ГССР, Тбилиси
Аннотация:
Описываются стационарный СВЧ источник плазмы,
его характеристики и возможность заполнения открытой магнитной ловушки
плазмой, инжектируемой из него. В источнике плазма создается на частоте
2400 МГц (подводимая мощность до 150 Вт) в режиме электронного циклотронного
резонанса (ЭЦР) при давлении аргона $10^{-5}{-}10^{-2}$ Тор. Изменяя условия
разряда, можно изменять концентрацию инжектируемой плазмы от $10^{9}$ до
$10^{12}\,\text{см}^{-3}$, при этом ${T_{e}=3\div8}$ эВ.
Экспериментально показана возможность эффективной инжекции плазмы из
источника в открытые магнитные ловушки различной конфигурации.
Поступила в редакцию: 11.07.1986
Образец цитирования:
Г. Е. Гогиашвили, С. И. Нанобашвили, Г. И. Ростомашвили, “Стационарный СВЧ источник плазмы”, ЖТФ, 57:9 (1987), 1746–1750
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/jtf875 https://www.mathnet.ru/rus/jtf/v57/i9/p1746
|
Статистика просмотров: |
Страница аннотации: | 50 | PDF полного текста: | 29 |
|