|
Плазма
Изучение диодных свойств двойного слоя комбинированного газового разряда
Б. М. Бржозовскийa, М. Б. Бровковаa, С. Г. Гестринb, Е. П. Зининаa, В. В. Мартыновa a Институт машиноведения им. А.А. Благонравова РАН, 101990 Москва, Россия
b Саратовский государственный технический университет имени Гагарина Ю. А., 410054 Саратов, Россия
Аннотация:
Показано, что при зажигании вблизи поверхности обрабатываемого изделия, размещенного в резонаторной камере, комбинированного газового разряда, возникает двойной слой, обладающий диодными свойствами. Повышение уровня подводимой в камеру СВЧ мощности привело к уменьшению сопротивлений эквивалентного диода в открытом и закрытом режимах и увеличению тока, протекающего через установку. Попадающие на поверхность изделия ионы ионизированного СВЧ полем технологического газа (азота или аргона), наполняющего камеру, диффундируют внутрь изделия в результате процесса термодиффузии, что привело к образованию упрочняющего поверхностного слоя. Разогрев изделия происходил при подаче на него положительного потенциала смещения потоком поступающих на поверхность высокоэнергичных электронов, ускоренных до энергий в десятки и сотни электронвольт в зоне ускорения разряда.
Ключевые слова:
комбинированный разряд, низкотемпературная плазма, ионно-плазменное диффузионное внедрение, плазменная упрочняющая обработка, двойной слой, диодный эффект.
Поступила в редакцию: 24.01.2023 Исправленный вариант: 26.04.2023 Принята в печать: 29.04.2023
Образец цитирования:
Б. М. Бржозовский, М. Б. Бровкова, С. Г. Гестрин, Е. П. Зинина, В. В. Мартынов, “Изучение диодных свойств двойного слоя комбинированного газового разряда”, ЖТФ, 93:8 (2023), 1101–1112
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/jtf7054 https://www.mathnet.ru/rus/jtf/v93/i8/p1101
|
Статистика просмотров: |
Страница аннотации: | 14 | PDF полного текста: | 2 |
|