|
Журнал технической физики, 2016, том 86, выпуск 3, страницы 51–57
(Mi jtf6602)
|
|
|
|
Эта публикация цитируется в 6 научных статьях (всего в 6 статьях)
Плазма
Экспериментальное изучение циклического воздействия плазмы на вольфрам
А. В. Воронинa, А. Е. Александровa, Б. Я. Берa, П. Н. Брунковa, А. А. Борматовb, В. К. Гусевa, Е. В. Деминаc, А. Н. Новохацкийa, С. И. Павловa, М. Д. Прусаковаc, Г. Ю. Сотниковаa, М. А. Яговкинаa a Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук, г. Санкт-Петербург
b Санкт-Петербургский политехнический университет Петра Великого
c Институт металлургии и материаловедения им. А. А. Байкова РАН
Аннотация:
Представлены экспериментальные результаты многократного воздействия на вольфрам водородной, дейтериевой и гелиевой плазмой, создаваемой плазменной пушкой и плазмой токамака Глобус-М. Измерена температура поверхности в процессе облучения двухцветным пирометром с временным разрешением $\ge$ 1 $\mu$s. Проведены исследования морфологии поверхностного слоя и рентгеноструктурный анализ вольфрама после многократного облучения плазмой в различных условиях. Обнаружено наибольшее уменьшение параметра решетки в образце с максимальным количеством циклов облучения. Показано, что морфология поверхности вольфрама, облученного водородной плазмой пушки и дейтериевой плазмой токамака Глобус-М, изменилась – структура сглаживалась. Характерная глубина слоя, в котором накапливались примеси, превышала 0.5 $\mu$m. Для образца, облученного 1000 импульсами пушки и 2370 импульсами токамака, эта глубина была наибольшая. Показано, что гелиевая струя плазменной пушки позволяет моделировать воздействия ионов гелия на материалы дивертора ИТЭР – создавался слой субмикрочастиц (пузыри).
Поступила в редакцию: 15.07.2015
Образец цитирования:
А. В. Воронин, А. Е. Александров, Б. Я. Бер, П. Н. Брунков, А. А. Борматов, В. К. Гусев, Е. В. Демина, А. Н. Новохацкий, С. И. Павлов, М. Д. Прусакова, Г. Ю. Сотникова, М. А. Яговкина, “Экспериментальное изучение циклического воздействия плазмы на вольфрам”, ЖТФ, 86:3 (2016), 51–57; Tech. Phys., 61:3 (2016), 370–376
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/jtf6602 https://www.mathnet.ru/rus/jtf/v86/i3/p51
|
Статистика просмотров: |
Страница аннотации: | 58 | PDF полного текста: | 24 |
|