|
Журнал технической физики, 2016, том 86, выпуск 4, страницы 148–150
(Mi jtf6593)
|
|
|
|
Эта публикация цитируется в 6 научных статьях (всего в 6 статьях)
Краткие сообщения
Состав морфология и электронная структура наноразмерных фаз, созданных на поверхности SiO$_{2}$ бомбардировкой ионами Ar$^{+}$
М. Б. Юсупжанова, Д. А. Ташмухамедова, Б. Е. Умирзаков Ташкентский государственный технический университет
Аннотация:
Изучено влияние бомбардировки ионами Ar$^{+}$ на состав и структуру поверхности SiO$_{2}$/Si. Обнаружено, что при высокодозной ионной бомбардировке на поверхности SiO$_{2}$ образуется тонкая пленка Si.
Поступила в редакцию: 08.07.2015
Образец цитирования:
М. Б. Юсупжанова, Д. А. Ташмухамедова, Б. Е. Умирзаков, “Состав морфология и электронная структура наноразмерных фаз, созданных на поверхности SiO$_{2}$ бомбардировкой ионами Ar$^{+}$”, ЖТФ, 86:4 (2016), 148–150; Tech. Phys., 61:4 (2016), 628–630
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/jtf6593 https://www.mathnet.ru/rus/jtf/v86/i4/p148
|
Статистика просмотров: |
Страница аннотации: | 24 | PDF полного текста: | 3 |
|