Журнал технической физики
RUS  ENG    ЖУРНАЛЫ   ПЕРСОНАЛИИ   ОРГАНИЗАЦИИ   КОНФЕРЕНЦИИ   СЕМИНАРЫ   ВИДЕОТЕКА   ПАКЕТ AMSBIB  
Общая информация
Последний выпуск
Архив
Правила для авторов

Поиск публикаций
Поиск ссылок

RSS
Последний выпуск
Текущие выпуски
Архивные выпуски
Что такое RSS


ЖТФ:
Год:
Том:
Выпуск:
Страница:
Найти




Персональный вход:
Логин:
Пароль:
Запомнить пароль
Войти
Забыли пароль?
Регистрация

Журнал технической физики, 2016, том 86, выпуск 4, страницы 106–112 (Mi jtf6586)  
Оптика

Пороговая интенсивность и коэффициент усиления вынужденного комбинационного рассеяния в двуслойном высокодобротном микрорезонаторе при формировании внутренней и внешней фотонной субмикронной струи: “фотонный наноджет” в ближнем поле

М. В. Журавлевa, N. W. Solísa, П. Ю. Перетягинa, А. А. Окуньковаa, R. Torrecillasb

a Московский государственный технологический университет "Станкин"
b Centro de Investigacion en Nanomateriales y Nanotechnologia (CINN) (CSIC–Universidad de Oviedo–Principado de Asturias), Parque Tecnologico de Asturias, Lianera, Spain
PDF полного текста (232 kB)
Аннотация: На базе квантового и полуклассического подходов сделаны оценки энергетического порога возбуждения вынужденного комбинационного рассеяния и его связи с концентрацией оптически-активных молекул в двуслойном микрорезонаторе при формировании оптических полей особой структуры – внутреннего и внешнего “фотонного наноджета”. На основании величины запасенной энергии в моде и величины пороговой интенсивности предложено дополнительное общее правило отбора мод “шепчущей галереи”. Показана возможность фокусировки двуслойным резонатором падающего излучения лазерной накачки в субмикронный фокальный объем при сравнительно малой пороговой интенсивности.
Поступила в редакцию: 03.10.2014
Исправленный вариант: 23.06.2015
Англоязычная версия:
Technical Physics, 2016, Volume 61, Issue 4, Pages 584–590
DOI: https://doi.org/10.1134/S1063784216040277
Реферативные базы данных:
Тип публикации: Статья
Образец цитирования: М. В. Журавлев, N. W. Solís, П. Ю. Перетягин, А. А. Окунькова, R. Torrecillas, “Пороговая интенсивность и коэффициент усиления вынужденного комбинационного рассеяния в двуслойном высокодобротном микрорезонаторе при формировании внутренней и внешней фотонной субмикронной струи: “фотонный наноджет” в ближнем поле”, ЖТФ, 86:4 (2016), 106–112; Tech. Phys., 61:4 (2016), 584–590
Цитирование в формате AMSBIB
\RBibitem{ZhuSolPer16}
\by М.~В.~Журавлев, N.~W.~Sol{\'\i}s, П.~Ю.~Перетягин, А.~А.~Окунькова, R.~Torrecillas
\paper Пороговая интенсивность и коэффициент усиления вынужденного комбинационного рассеяния в двуслойном высокодобротном микрорезонаторе при формировании внутренней и внешней фотонной субмикронной струи: ``фотонный наноджет'' в ближнем поле
\jour ЖТФ
\yr 2016
\vol 86
\issue 4
\pages 106--112
\mathnet{http://mi.mathnet.ru/jtf6586}
\elib{https://elibrary.ru/item.asp?id=25669396}
\transl
\jour Tech. Phys.
\yr 2016
\vol 61
\issue 4
\pages 584--590
\crossref{https://doi.org/10.1134/S1063784216040277}
Образцы ссылок на эту страницу:
  • https://www.mathnet.ru/rus/jtf6586
  • https://www.mathnet.ru/rus/jtf/v86/i4/p106
    • Citing articles in Google Scholar: Russian citations, English citations
    Related articles in Google Scholar: Russian articles, English articles
    		Журнал технической физики Журнал технической физики
    Статистика просмотров:
    Страница аннотации:34
    PDF полного текста:12
     
      Обратная связь:
    		  Пользовательское соглашение  Регистрация посетителей портала  Логотипы © Математический институт им. В. А. Стеклова РАН, 2024