Генерация кильватерных полей при заполнении диэлектрической структуры плазмой

Исследовано влияние плазмы на амплитуду кильватерных полей, возбуждаемых в диэлектрической структуре последовательностью релятивистских электронных сгустков. Рассматриваемая структура – диэлектрический волновод цилиндрической конфигурации с аксиальным дрейфовым каналом, заполненным плазмой. Получены зависимости амплитуды продольного электрического поля от плотности плазмы для трех случаев: параметры диэлектрической структуры и сгустков фиксированы; внутренний или внешний радиус диэлектрической трубки изменяются в соответствии с изменением плазменной частоты, а частота следования сгустков подстраивается под плазменную частоту и частоту первой радиальной моды диэлектрической волны. Показано, что в случае подстройки частот собственных волн под частоту следования сгустков за счет изменения радиусов структуры, максимум ускоряющего поля определяется плазменной волной, но существуют интервалы значений плотности плазмы, где значительный вклад в амплитуду полного поля вносит диэлектрическая волна. Для случая изменения внешнего радиуса этот интервал значений существенно шире.