|
Журнал технической физики, 2016, том 86, выпуск 5, страницы 57–63
(Mi jtf6551)
|
|
|
|
Эта публикация цитируется в 11 научных статьях (всего в 11 статьях)
Твердое тело
Влияние облучения ионами гелия на структуру, фазовую стабильность и микротвердость наноструктурированных покрытий TiN, TiAlN, TiAlYN
Ф. Ф. Комаровa, С. В. Константиновa, В. Е. Стрельницкийb, В. В. Пилькоa a Институт прикладных физических проблем им. А. Н. Севченко Белорусского государственного университета, г. Минск
b Национальный научный центр "Харьковский физико-технический институт"
Аннотация:
Исследована радиационная стойкость наноструктурированных покрытий TiN, TiAlN, TiAlYN при облучении ионами He$^{+}$ с энергией 500 keV в диапазоне флюенсов от 5 $\cdot$ 10$^{16}$ до 3 $\cdot$ 10$^{17}$ ions/cm$^{2}$. Изучено изменение фазового состава, структуры, параметров кристаллической решeтки, морфологии и механических свойств покрытий под воздействием облучения ионами гелия. Обнаружено отсутствие блистеринга, выявлен факт нелинейного влияния флюенса облучения на прочностные свойства тонких покрытий. Обнаружено значительное уменьшение размеров зерен в покрытиях при ионном облучении, что обусловливает увеличение микротвердости и радиационной стойкости покрытий. Установлено, что наноструктурированные покрытия TiN, TiAlN, TiAlYN являются радиационно-стойкими и не подвержены катастрофической деградации под воздействием высокофлюенсного ионного облучения.
Поступила в редакцию: 07.07.2015
Образец цитирования:
Ф. Ф. Комаров, С. В. Константинов, В. Е. Стрельницкий, В. В. Пилько, “Влияние облучения ионами гелия на структуру, фазовую стабильность и микротвердость наноструктурированных покрытий TiN, TiAlN, TiAlYN”, ЖТФ, 86:5 (2016), 57–63; Tech. Phys., 61:5 (2016), 696–702
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/jtf6551 https://www.mathnet.ru/rus/jtf/v86/i5/p57
|
|