|
Журнал технической физики, 2016, том 86, выпуск 6, страницы 156–158
(Mi jtf6542)
|
|
|
|
Эта публикация цитируется в 7 научных статьях (всего в 7 статьях)
Краткие сообщения
Прохождение электромагнитных излучений через тонкие пленки Cu
Ё. С. Эргашовa, З. А. Исахановb, Б. Е. Умирзаковab a Ташкентский государственный технический университет
b Институт ионно-плазменных и лазерных технологий АН РУз, г. Ташкент, Академгородок
Аннотация:
Впервые методом прохождения света исследована электронная структура наноразмерных фаз Cu, полученных на поверхности монокристаллического NaCl (100) методом высоковакуумного напыления. Показано, что нанопленки Cu с толщиной 1–1.5 monolayer обладают свойствами, характерными для узкозонных полупроводников.
Поступила в редакцию: 13.01.2015 Исправленный вариант: 12.10.2015
Образец цитирования:
Ё. С. Эргашов, З. А. Исаханов, Б. Е. Умирзаков, “Прохождение электромагнитных излучений через тонкие пленки Cu”, ЖТФ, 86:6 (2016), 156–158; Tech. Phys., 61:6 (2016), 953–955
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/jtf6542 https://www.mathnet.ru/rus/jtf/v86/i6/p156
|
|