Скиновый электрический взрыв двуслойных проводников с напыленным низкопроводящим слоем

На сильноточном генераторе МИГ (при амплитуде тока до 2.5 MA и времени его нарастания 100 ns) были проведены эксперименты по взрыву цилиндрических проводников, цель которых состояла в сравнении процесса плазмообразования при скиновом взрыве однородных и двухслойных проводников с внешним слоем меньшей проводимости. Нагрузкой генератора служили цилиндрические медные проводники диаметром 3 mm, на прикатодную часть которых методом вакуумного напыления наносился слой титана толщиной 20, 50 и 80 $\mu$m. Использование такого типа нагрузки позволило в идентичных условиях сравнить поведение однородного и двуслойного проводников. Показано, что за счет двуслойной структуры проводника с внешним слоем меньшей проводимости толщиной 20–80 $\mu$m, полученным способом вакуумного напыления, возможно достижение более высоких значений индукции магнитного поля на его поверхности до начала процесса образования и разлета плазмы по сравнению с однородным проводником.