|
Журнал технической физики, 2016, том 86, выпуск 6, страницы 57–61
(Mi jtf6525)
|
|
|
|
Эта публикация цитируется в 5 научных статьях (всего в 5 статьях)
Плазма
Скиновый электрический взрыв двуслойных проводников с напыленным низкопроводящим слоем
И. М. Дацко, Н. А. Лабецкая, С. А. Чайковский, В. В. Шугуров Институт сильноточной электроники СО РАН, г. Томск
Аннотация:
На сильноточном генераторе МИГ (при амплитуде тока до 2.5 MA и времени его нарастания 100 ns) были проведены эксперименты по взрыву цилиндрических проводников, цель которых состояла в сравнении процесса плазмообразования при скиновом взрыве однородных и двухслойных проводников с внешним слоем меньшей проводимости. Нагрузкой генератора служили цилиндрические медные проводники диаметром 3 mm, на прикатодную часть которых методом вакуумного напыления наносился слой титана толщиной 20, 50 и 80 $\mu$m. Использование такого типа нагрузки позволило в идентичных условиях сравнить поведение однородного и двуслойного проводников. Показано, что за счет двуслойной структуры проводника с внешним слоем меньшей проводимости толщиной 20–80 $\mu$m, полученным способом вакуумного напыления, возможно достижение более высоких значений индукции магнитного поля на его поверхности до начала процесса образования и разлета плазмы по сравнению с однородным проводником.
Поступила в редакцию: 17.03.2015 Исправленный вариант: 10.11.2015
Образец цитирования:
И. М. Дацко, Н. А. Лабецкая, С. А. Чайковский, В. В. Шугуров, “Скиновый электрический взрыв двуслойных проводников с напыленным низкопроводящим слоем”, ЖТФ, 86:6 (2016), 57–61; Tech. Phys., 61:6 (2016), 855–859
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/jtf6525 https://www.mathnet.ru/rus/jtf/v86/i6/p57
|
|