|
Эта публикация цитируется в 6 научных статьях (всего в 6 статьях)
Физика низкоразмерных структур
Управление температурными полями в процессе искрового плазменного спекания термоэлектриков
Л. П. Булатa, А. В. Новотельноваa, А. С. Тукмаковаa, Д. Е. Ережепa, В. Б. Освенскийb, А. И. Сорокинb, Д. А. Пшенай-Северинc, С. Ашмонтасd a Санкт-Петербургский национальный исследовательский университет информационных технологий, механики и оптики
b Государственный научно-исследовательский и проектный институт редкометаллической промышленности "Гиредмет", Москва, Россия
c Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук, г. Санкт-Петербург
d State Research Institute Center for Physical Science and Technology,
Vilnius, Lithuania
Аннотация:
Выполнено моделирование процесса создания термоэлектриков методом искрового плазменного спекания наноструктурированных порошков для получения материалов с улучшенными термоэлектрическими свойствами. Проанализированы факторы, влияющие на распределение теплового поля в процессе спекания. Рассмотрено влияние геометрических параметров оснастки на формирование температурного градиентного поля, необходимого для эффективного спекания функционально-градиентных материалов и составных ветвей термоэлементов. Результаты работы могут использоваться для определения условий и режимов спекания функционально-градиентных материалов на установках искрового плазменного спекания и горячего прессования.
Поступила в редакцию: 30.08.2016
Образец цитирования:
Л. П. Булат, А. В. Новотельнова, А. С. Тукмакова, Д. Е. Ережеп, В. Б. Освенский, А. И. Сорокин, Д. А. Пшенай-Северин, С. Ашмонтас, “Управление температурными полями в процессе искрового плазменного спекания термоэлектриков”, ЖТФ, 87:4 (2017), 584–592; Tech. Phys., 62:4 (2017), 604–612
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/jtf6265 https://www.mathnet.ru/rus/jtf/v87/i4/p584
|
Статистика просмотров: |
Страница аннотации: | 44 | PDF полного текста: | 13 |
|