|
Краткие сообщения
Влияние процесса токовой нейтрализации и многократного кулоновского рассеяния на пространственную динамику резистивной перетяжечной неустойчивости релятивистского электронного пучка, распространяющегося в омической плазме
Е. К. Колесников, А. С. Мануйлов, В. С. Петров, Г. Н. Клюшников, С. В. Чернов Санкт-Петербургский государственный университет
Аннотация:
Рассмотрено влияние процесса токовой нейтрализации, фазового перемешивания траекторий электронов и многократного кулоновского рассеяния электронов пучка на атомах фоновой среды на пространственный инкремент нарастания резистивной перетяжечной неустойчивости релятивистского электронного пучка, распространяющегося в омическом плазменном канале. Показано, что усиление токовой нейтрализации приводит к существенному росту данной неустойчивости, а фазовое перемешивание и процесс многократного рассеяния электронов пучка на атомах фоновой среды являются стабилизирующими фактором.
Поступила в редакцию: 07.04.2016 Исправленный вариант: 14.09.2016
Образец цитирования:
Е. К. Колесников, А. С. Мануйлов, В. С. Петров, Г. Н. Клюшников, С. В. Чернов, “Влияние процесса токовой нейтрализации и многократного кулоновского рассеяния на пространственную динамику резистивной перетяжечной неустойчивости релятивистского электронного пучка, распространяющегося в омической плазме”, ЖТФ, 87:6 (2017), 938–941; Tech. Phys., 62:6 (2017), 956–960
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/jtf6217 https://www.mathnet.ru/rus/jtf/v87/i6/p938
|
Статистика просмотров: |
Страница аннотации: | 30 | PDF полного текста: | 11 |
|