Моделирование процесса резистивного динамического испарения в вакууме

Представлена модель процесса резистивного динамического испарения в вакууме, учитывающая конструктивные особенности соответствующего испарителя. В рамках модели получены зависимости для определения времени нагрева материала до температуры испарения, а также динамических характеристик процесса испарения. Показано, что полученные характеристики являются негармоническими и периодически повторяющимися. Подтверждена адекватность разработанной модели физическому процессу. Установлено, что расхождение между экспериментальными и расчетными временными характеристиками движения заслонки составило не более 5%. Даны рекомендации по использованию предложенной модели в технологических процессах формирования тонких пленок многокомпонентных материалов методами термовакуумного испарения.