Журнал технической физики
RUS  ENG    ЖУРНАЛЫ   ПЕРСОНАЛИИ   ОРГАНИЗАЦИИ   КОНФЕРЕНЦИИ   СЕМИНАРЫ   ВИДЕОТЕКА   ПАКЕТ AMSBIB  
Общая информация
Последний выпуск
Архив
Правила для авторов

Поиск публикаций
Поиск ссылок

RSS
Последний выпуск
Текущие выпуски
Архивные выпуски
Что такое RSS


ЖТФ:
Год:
Том:
Выпуск:
Страница:
Найти




Персональный вход:
Логин:
Пароль:
Запомнить пароль
Войти
Забыли пароль?
Регистрация

Журнал технической физики, 2017, том 87, выпуск 11, страницы 1718–1721
DOI: https://doi.org/10.21883/JTF.2017.11.45136.2180 (Mi jtf6084) 		 
Электрофизика, электронные и ионные пучки, физика ускорителей

Моделирование динамики резистивной шланговой неустойчивости релятивистского электронного пучка, распространяющегося в омическом плазменном канале произвольной проводимости

Е. К. Колесников, А. С. Мануйлов, В. С. Петров

Санкт-Петербургский государственный университет
PDF полного текста (95 kB)
DOI: https://doi.org/10.21883/JTF.2017.11.45136.2180
Аннотация: Исследована пространственная динамика резистивной шланговой неустойчивости релятивистского электронного пучка в случаях, когда время зарядовой нейтрализации много больше, порядка и много меньше времени токовой компенсации. Получено, что наибольшим пространственным инкрементом нарастания указанная неустойчивость обладает в случае, когда время зарядовой нейтрализации порядка скинового времени.
Поступила в редакцию: 25.01.2017
Исправленный вариант: 20.03.2017
Англоязычная версия:
Technical Physics, 2017, Volume 62, Issue 11, Pages 1720–1723
DOI: https://doi.org/10.1134/S1063784217110160
Реферативные базы данных:
Тип публикации: Статья
Образец цитирования: Е. К. Колесников, А. С. Мануйлов, В. С. Петров, “Моделирование динамики резистивной шланговой неустойчивости релятивистского электронного пучка, распространяющегося в омическом плазменном канале произвольной проводимости”, ЖТФ, 87:11 (2017), 1718–1721; Tech. Phys., 62:11 (2017), 1720–1723
Цитирование в формате AMSBIB
\RBibitem{KolManPet17}
\by Е.~К.~Колесников, А.~С.~Мануйлов, В.~С.~Петров
\paper Моделирование динамики резистивной шланговой неустойчивости релятивистского электронного пучка, распространяющегося в омическом плазменном канале произвольной проводимости
\jour ЖТФ
\yr 2017
\vol 87
\issue 11
\pages 1718--1721
\mathnet{http://mi.mathnet.ru/jtf6084}
\crossref{https://doi.org/10.21883/JTF.2017.11.45136.2180}
\elib{https://elibrary.ru/item.asp?id=30496431}
\transl
\jour Tech. Phys.
\yr 2017
\vol 62
\issue 11
\pages 1720--1723
\crossref{https://doi.org/10.1134/S1063784217110160}
Образцы ссылок на эту страницу:
  • https://www.mathnet.ru/rus/jtf6084
  • https://www.mathnet.ru/rus/jtf/v87/i11/p1718
    • Citing articles in Google Scholar: Russian citations, English citations
    Related articles in Google Scholar: Russian articles, English articles
    		Журнал технической физики Журнал технической физики
    Статистика просмотров:
    Страница аннотации:43
    PDF полного текста:12
     
      Обратная связь:
    		  Пользовательское соглашение  Регистрация посетителей портала  Логотипы © Математический институт им. В. А. Стеклова РАН, 2024