Создание наноструктурированной поверхности кремния методом селективного химического травления

Методом селективного химического травления, инициированного металлическими нанокластерами, в двухэтапном процессе получены наноструктурированные поверхности кремниевых пластин с низким коэффициентом отражения. На кремниевых подложках, покрытых нанокластерами серебра, эффект усиленного поверхностью рамановского рассеяния наблюдался до концентраций радомина $\sim$10$^{-12}$ М. Зависимость глубины наноструктурированного слоя от условий проведения двухэтапного процесса травления, в частности от длительности травления, является весьма слабой при определенных технологических параметрах. При прочих равных условиях проведения процесса травления в кремнии $p$-типа проводимости скорость образования текстурированного слоя в два раза выше, чем в кремнии $n$-типа.