|
Эта публикация цитируется в 6 научных статьях (всего в 6 статьях)
Физика низкоразмерных структур
Аналитическая модель атомно-слоевого осаждения пленок на 3D-структурах с высоким аспектным отношением
А. В. Фадеев, А. В. Мяконьких, К. В. Руденко Физико-технологический институт РАН, г. Москва
Аннотация:
Предложена теоретическая модель, позволяющая предсказать пространственный профиль пленки, нанесенной на стенки высокоаспектной структуры (тренча) методом атомно-слоевого осаждения, в зависимости от параметров процесса осаждения. Модель позволяет рассчитать оптимальное время дозирования прекурсора, необходимое для конформного покрытия стенок тренча. Получена приближенная формула, описывающая осаждение пленок равной толщины на стенки тренча, включающая два асимптотических режима осаждения при различных соотношениях между коэффициентом прилипания молекул прекурсора и аспектным отношением структуры тренча.
Поступила в редакцию: 13.06.2017
Образец цитирования:
А. В. Фадеев, А. В. Мяконьких, К. В. Руденко, “Аналитическая модель атомно-слоевого осаждения пленок на 3D-структурах с высоким аспектным отношением”, ЖТФ, 88:2 (2018), 243–250; Tech. Phys., 63:2 (2018), 235–242
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/jtf5997 https://www.mathnet.ru/rus/jtf/v88/i2/p243
|
Статистика просмотров: |
Страница аннотации: | 32 | PDF полного текста: | 7 |
|