Журнал технической физики
RUS  ENG    ЖУРНАЛЫ   ПЕРСОНАЛИИ   ОРГАНИЗАЦИИ   КОНФЕРЕНЦИИ   СЕМИНАРЫ   ВИДЕОТЕКА   ПАКЕТ AMSBIB  
Общая информация
Последний выпуск
Архив
Правила для авторов

Поиск публикаций
Поиск ссылок

RSS
Последний выпуск
Текущие выпуски
Архивные выпуски
Что такое RSS



ЖТФ:
Год:
Том:
Выпуск:
Страница:
Найти






Персональный вход:
Логин:
Пароль:
Запомнить пароль
Войти
Забыли пароль?
Регистрация


Журнал технической физики, 2018, том 88, выпуск 2, страницы 168–173
DOI: https://doi.org/10.21883/JTF.2018.02.45402.2370
(Mi jtf5983)
 

Эта публикация цитируется в 2 научных статьях (всего в 2 статьях)

Теоретическая и математическая физика

Высокочастотная асимптотика спектрального распределения энергии равновесного излучения в вырожденной электронной плазме

В. Б. Бобровab

a Объединенный институт высоких температур РАН, г. Москва
b Национальный исследовательский университет «Московский энергетический институт»
Аннотация: Показано, что в вырожденной электронной плазме асимптотическое поведение спектрального распределения энергии равновесного излучения в области высоких частот принципиально отличается от формулы Планка в силу степенного характера убывания по частоте. При этом определяющим является учет собственного магнитного момента электронов.
Финансовая поддержка Номер гранта
Российский фонд фундаментальных исследований 17-02-00573
Настоящая работа выполнена при финансовой поддержке РФФИ (грант № 17-02-00573).
Поступила в редакцию: 01.06.2017
Англоязычная версия:
Technical Physics, 2018, Volume 63, Issue 2, Pages 160–166
DOI: https://doi.org/10.1134/S1063784218020056
Реферативные базы данных:
Тип публикации: Статья
Образец цитирования: В. Б. Бобров, “Высокочастотная асимптотика спектрального распределения энергии равновесного излучения в вырожденной электронной плазме”, ЖТФ, 88:2 (2018), 168–173; Tech. Phys., 63:2 (2018), 160–166
Цитирование в формате AMSBIB
\RBibitem{Bob18}
\by В.~Б.~Бобров
\paper Высокочастотная асимптотика спектрального распределения энергии равновесного излучения в вырожденной электронной плазме
\jour ЖТФ
\yr 2018
\vol 88
\issue 2
\pages 168--173
\mathnet{http://mi.mathnet.ru/jtf5983}
\crossref{https://doi.org/10.21883/JTF.2018.02.45402.2370}
\elib{https://elibrary.ru/item.asp?id=32739967}
\transl
\jour Tech. Phys.
\yr 2018
\vol 63
\issue 2
\pages 160--166
\crossref{https://doi.org/10.1134/S1063784218020056}
Образцы ссылок на эту страницу:
  • https://www.mathnet.ru/rus/jtf5983
  • https://www.mathnet.ru/rus/jtf/v88/i2/p168
  • Эта публикация цитируется в следующих 2 статьяx:
    Citing articles in Google Scholar: Russian citations, English citations
    Related articles in Google Scholar: Russian articles, English articles
    Журнал технической физики Журнал технической физики
    Статистика просмотров:
    Страница аннотации:29
    PDF полного текста:8
     
      Обратная связь:
     Пользовательское соглашение  Регистрация посетителей портала  Логотипы © Математический институт им. В. А. Стеклова РАН, 2024