Журнал технической физики
RUS  ENG    ЖУРНАЛЫ   ПЕРСОНАЛИИ   ОРГАНИЗАЦИИ   КОНФЕРЕНЦИИ   СЕМИНАРЫ   ВИДЕОТЕКА   ПАКЕТ AMSBIB  
Общая информация
Последний выпуск
Архив
Правила для авторов

Поиск публикаций
Поиск ссылок

RSS
Последний выпуск
Текущие выпуски
Архивные выпуски
Что такое RSS



ЖТФ:
Год:
Том:
Выпуск:
Страница:
Найти






Персональный вход:
Логин:
Пароль:
Запомнить пароль
Войти
Забыли пароль?
Регистрация


Журнал технической физики, 2018, том 88, выпуск 8, страницы 1224–1228
DOI: https://doi.org/10.21883/JTF.2018.08.46313.2234
(Mi jtf5845)
 

Эта публикация цитируется в 4 научных статьях (всего в 4 статьях)

Физика низкоразмерных структур

Влияние температуры отжига на микроструктуру и морфологию пленок TiN, синтезированных методом дуального магнетронного распыления

С. В. Зайцев, В. С. Ващилин, Д. С. Прохоренков, М. В. Лимаренко, Е. И. Евтушенко

Белгородский государственный технологический университет имени В. Г. Шухова
Аннотация: Пленки TiN, синтезированные на подложках лейкосапфира методом дуального магнетронного распыления, подвергли последующему отжигу в вакууме при 600, 700, 800 и 900$^\circ$C в течение 2 min. Микроструктуру и морфологию пленок при различных температурах исследованы методами рентгеновской дифракции и сканирующей электронной микроскопии. Установлено, что отжиг влияет на изменения в микроструктуре, текстуре, размере зерна и шероховатости пленок TiN.
Финансовая поддержка Номер гранта
Российский фонд фундаментальных исследований 14-41-08064 р_офи_м
Работа выполнена при финансовой поддержке гранта РФФИ (№ 14-41-08064 р_офи_м) и программы стратегического развития БГТУ им. В.Г. Шухова.
Поступила в редакцию: 03.03.2017
Исправленный вариант: 13.02.2018
Англоязычная версия:
Technical Physics, 2018, Volume 63, Issue 8, Pages 1189–1193
DOI: https://doi.org/10.1134/S1063784218080236
Реферативные базы данных:
Тип публикации: Статья
Образец цитирования: С. В. Зайцев, В. С. Ващилин, Д. С. Прохоренков, М. В. Лимаренко, Е. И. Евтушенко, “Влияние температуры отжига на микроструктуру и морфологию пленок TiN, синтезированных методом дуального магнетронного распыления”, ЖТФ, 88:8 (2018), 1224–1228; Tech. Phys., 63:8 (2018), 1189–1193
Цитирование в формате AMSBIB
\RBibitem{ZaiVasPro18}
\by С.~В.~Зайцев, В.~С.~Ващилин, Д.~С.~Прохоренков, М.~В.~Лимаренко, Е.~И.~Евтушенко
\paper Влияние температуры отжига на микроструктуру и морфологию пленок TiN, синтезированных методом дуального магнетронного распыления
\jour ЖТФ
\yr 2018
\vol 88
\issue 8
\pages 1224--1228
\mathnet{http://mi.mathnet.ru/jtf5845}
\crossref{https://doi.org/10.21883/JTF.2018.08.46313.2234}
\elib{https://elibrary.ru/item.asp?id=35269884}
\transl
\jour Tech. Phys.
\yr 2018
\vol 63
\issue 8
\pages 1189--1193
\crossref{https://doi.org/10.1134/S1063784218080236}
Образцы ссылок на эту страницу:
  • https://www.mathnet.ru/rus/jtf5845
  • https://www.mathnet.ru/rus/jtf/v88/i8/p1224
  • Эта публикация цитируется в следующих 4 статьяx:
    Citing articles in Google Scholar: Russian citations, English citations
    Related articles in Google Scholar: Russian articles, English articles
    Журнал технической физики Журнал технической физики
     
      Обратная связь:
     Пользовательское соглашение  Регистрация посетителей портала  Логотипы © Математический институт им. В. А. Стеклова РАН, 2024