Журнал технической физики
RUS  ENG    ЖУРНАЛЫ   ПЕРСОНАЛИИ   ОРГАНИЗАЦИИ   КОНФЕРЕНЦИИ   СЕМИНАРЫ   ВИДЕОТЕКА   ПАКЕТ AMSBIB  
Общая информация
Последний выпуск
Архив
Правила для авторов

Поиск публикаций
Поиск ссылок

RSS
Последний выпуск
Текущие выпуски
Архивные выпуски
Что такое RSS


ЖТФ:
Год:
Том:
Выпуск:
Страница:
Найти




Персональный вход:
Логин:
Пароль:
Запомнить пароль
Войти
Забыли пароль?
Регистрация

Журнал технической физики, 2018, том 88, выпуск 12, страницы 1845–1852
DOI: https://doi.org/10.21883/JTF.2018.12.46786.37-18 (Mi jtf5746) 		 
Эта публикация цитируется в 9 научных статьях (всего в 9 статьях)

Физическое материаловедение

Влияние низкоэнергетической ионно-плазменной обработки на остаточные напряжения в тонких пленках хрома

А. С. Бабушкин, И. В. Уваров, И. И. Амиров

Ярославский филиал Физико-технологического института РАН
PDF полного текста (572 kB) Список цитирования (9)
DOI: https://doi.org/10.21883/JTF.2018.12.46786.37-18
Аннотация: Представлены результаты исследования влияния бомбардировки ионами аргона низкой энергии ($\sim$ 30 eV) на остаточные механические напряжения в тонкой пленке хрома. Изменение среднего значения и градиента напряжений в зависимости от длительности ионной бомбардировки определялось по изменению изгиба тестовых микромеханических мостов и кантилеверов. Предложена методика расчета глубины модификации напряжений в пленке с использованием этих структур. Установлено, что длительная ионно-плазменная обработка при комнатной температуре оказывает воздействие на напряжения на глубине более 100 nm.
Финансовая поддержка Номер гранта
Министерство образования и науки Российской Федерации
Работа выполнялась с использованием оборудования ЦКП “Диагностика микро- и наноструктур” при финансовой поддержке Министерства образования и науки РФ.
Поступила в редакцию: 23.01.2018
Англоязычная версия:
Technical Physics, 2018, Volume 63, Issue 12, Pages 1800–1807
DOI: https://doi.org/10.1134/S1063784218120228
Реферативные базы данных:
Тип публикации: Статья
Образец цитирования: А. С. Бабушкин, И. В. Уваров, И. И. Амиров, “Влияние низкоэнергетической ионно-плазменной обработки на остаточные напряжения в тонких пленках хрома”, ЖТФ, 88:12 (2018), 1845–1852; Tech. Phys., 63:12 (2018), 1800–1807
Цитирование в формате AMSBIB
\RBibitem{BabUvaAmi18}
\by А.~С.~Бабушкин, И.~В.~Уваров, И.~И.~Амиров
\paper Влияние низкоэнергетической ионно-плазменной обработки на остаточные напряжения в тонких пленках хрома
\jour ЖТФ
\yr 2018
\vol 88
\issue 12
\pages 1845--1852
\mathnet{http://mi.mathnet.ru/jtf5746}
\crossref{https://doi.org/10.21883/JTF.2018.12.46786.37-18}
\elib{https://elibrary.ru/item.asp?id=36929260}
\transl
\jour Tech. Phys.
\yr 2018
\vol 63
\issue 12
\pages 1800--1807
\crossref{https://doi.org/10.1134/S1063784218120228}
Образцы ссылок на эту страницу:
  • https://www.mathnet.ru/rus/jtf5746
  • https://www.mathnet.ru/rus/jtf/v88/i12/p1845
    • Эта публикация цитируется в следующих 9 статьяx:
    Citing articles in Google Scholar: Russian citations, English citations
    Related articles in Google Scholar: Russian articles, English articles
    		Журнал технической физики Журнал технической физики
    Статистика просмотров:
    Страница аннотации:45
    PDF полного текста:22
     
      Обратная связь:
    		  Пользовательское соглашение  Регистрация посетителей портала  Логотипы © Математический институт им. В. А. Стеклова РАН, 2024