Журнал технической физики
RUS  ENG    ЖУРНАЛЫ   ПЕРСОНАЛИИ   ОРГАНИЗАЦИИ   КОНФЕРЕНЦИИ   СЕМИНАРЫ   ВИДЕОТЕКА   ПАКЕТ AMSBIB  
Общая информация
Последний выпуск
Архив
Правила для авторов

Поиск публикаций
Поиск ссылок

RSS
Последний выпуск
Текущие выпуски
Архивные выпуски
Что такое RSS



ЖТФ:
Год:
Том:
Выпуск:
Страница:
Найти






Персональный вход:
Логин:
Пароль:
Запомнить пароль
Войти
Забыли пароль?
Регистрация


Журнал технической физики, 2019, том 89, выпуск 6, страницы 861–867
DOI: https://doi.org/10.21883/JTF.2019.06.47632.214-18
(Mi jtf5588)
 

Эта публикация цитируется в 3 научных статьях (всего в 3 статьях)

Плазма

Разрядная система с самонакаливаемым полым катодом и испаряемым анодом в остроугольном магнитном поле для нанесения оксидных покрытий

Н. В. Гавриловa, А. С. Каменецкихa, Д. Р. Емлинa, П. В. Третниковa, А. В. Чукинb

a Институт электрофизики УрО РАН, г. Екатеринбург
b Уральский федеральный университет, Екатеринбург, Россия
Аннотация: Исследованы свойства разряда с самонакаливаемым полым катодом и испаряемым анодом, помещенными в остроугольное магнитное поле, создаваемое двумя встречно включенными катушками, установленными в области анода и катода. В области кольцевой магнитной щели установлен отрицательно смещенный держатель образцов. Сжатие столба разряда на аноде магнитным полем обеспечивает эффективное испарение металла (алюминий), загружаемого в анод-тигель, изменением тока катодной магнитной катушки регулировалось плотность генерируемой в объеме кислородсодержащей плазмы. Скорость нанесение покрытий из оксида алюминия реактивным анодным испарением в отличие от реактивного магнетронного распыления не ограничена окислением распыляемой мишени, ресурс термоэмиссионного катода составляет сотни часов. Высокая плотность ионного тока из плазмы (до 10 mA/cm$^{2}$) обеспечивает снижение температуры кристаллизации и формирование нанокристаллических оксидных покрытий. Определены условия стабильного горения разряда с током до 40 А при давлении кислородно-аргоновой смеси 0.1 Pa. Приведены результаты зондовой диагностики параметров плазмы разряда, измерения скорости осаждения, анализа структуры и свойств покрытий из оксида алюминия.
Финансовая поддержка Номер гранта
Российский научный фонд 18-19-00567
Работа выполнена при финансовой поддержке Российского научного фонда, грант № 18-19-00567.
Поступила в редакцию: 01.06.2018
Исправленный вариант: 01.06.2018
Принята в печать: 18.12.2018
Англоязычная версия:
Technical Physics, 2019, Volume 64, Issue 6, Pages 807–813
DOI: https://doi.org/10.1134/S1063784219060082
Реферативные базы данных:
Тип публикации: Статья
Образец цитирования: Н. В. Гаврилов, А. С. Каменецких, Д. Р. Емлин, П. В. Третников, А. В. Чукин, “Разрядная система с самонакаливаемым полым катодом и испаряемым анодом в остроугольном магнитном поле для нанесения оксидных покрытий”, ЖТФ, 89:6 (2019), 861–867; Tech. Phys., 64:6 (2019), 807–813
Цитирование в формате AMSBIB
\RBibitem{GavKamEml19}
\by Н.~В.~Гаврилов, А.~С.~Каменецких, Д.~Р.~Емлин, П.~В.~Третников, А.~В.~Чукин
\paper Разрядная система с самонакаливаемым полым катодом и испаряемым анодом в остроугольном магнитном поле для нанесения оксидных покрытий
\jour ЖТФ
\yr 2019
\vol 89
\issue 6
\pages 861--867
\mathnet{http://mi.mathnet.ru/jtf5588}
\crossref{https://doi.org/10.21883/JTF.2019.06.47632.214-18}
\elib{https://elibrary.ru/item.asp?id=39133830}
\transl
\jour Tech. Phys.
\yr 2019
\vol 64
\issue 6
\pages 807--813
\crossref{https://doi.org/10.1134/S1063784219060082}
Образцы ссылок на эту страницу:
  • https://www.mathnet.ru/rus/jtf5588
  • https://www.mathnet.ru/rus/jtf/v89/i6/p861
  • Эта публикация цитируется в следующих 3 статьяx:
    Citing articles in Google Scholar: Russian citations, English citations
    Related articles in Google Scholar: Russian articles, English articles
    Журнал технической физики Журнал технической физики
    Статистика просмотров:
    Страница аннотации:33
    PDF полного текста:16
     
      Обратная связь:
     Пользовательское соглашение  Регистрация посетителей портала  Логотипы © Математический институт им. В. А. Стеклова РАН, 2024