|
Эта публикация цитируется в 3 научных статьях (всего в 3 статьях)
Твердотельная электроника
Сравнительный анализ характеристик термофотовольтаических преобразователей на основе структур $p$-InAsSbP/$n$-InAs, облучаемых со стороны $p$- и $n$-типа проводимости
Б. А. Матвеевa, В. И. Ратушныйb, А. Ю. Рыбальченкоb a Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук, г. Санкт-Петербург
b Волгодонский инженерно-технический институт – филиал Национального исследовательского ядерного университета МИФИ
Аннотация:
Проведено моделирование основных характеристик термофотовольтаических преобразователей, выполненных на основе гетероструктур $p$-InAsSbP/$n$-InAs в конструкциях с контактом ограниченной площади к облучаемому слою $p$-InAsSbP и флип-чип с вводом излучения через свободную от контактов поверхность подложки $n^{+}$-InAs. Показано влияние особенностей конструкции на температуру активной области и на эффективность преобразователя.
Ключевые слова:
термофотовольтаический преобразователь, гетероструктуры InAsSbP/InAs, флип-чип, тепловой режим.
Поступила в редакцию: 09.10.2018 Исправленный вариант: 27.01.2019 Принята в печать: 19.02.2019
Образец цитирования:
Б. А. Матвеев, В. И. Ратушный, А. Ю. Рыбальченко, “Сравнительный анализ характеристик термофотовольтаических преобразователей на основе структур $p$-InAsSbP/$n$-InAs, облучаемых со стороны $p$- и $n$-типа проводимости”, ЖТФ, 89:8 (2019), 1233–1237; Tech. Phys., 64:8 (2019), 1164–1167
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/jtf5542 https://www.mathnet.ru/rus/jtf/v89/i8/p1233
|
|