|
Эта публикация цитируется в 7 научных статьях (всего в 7 статьях)
Твердотельная электроника
Проблемы при использовании травителя KOH-IPA для текстурирования кремниевых пластин
Н. А. Чучвагаab, Н. М. Кисляковаa, Н. С. Токмолдинabc, Б. А. Ракыметовa, А. С. Сериккановa a Satbaev University, Institute of Physics and Technology,
Алматы, Казахстан
b ТОО "НПЦ Агроинженерии", г. Алматы
c Казахский национальный университет им. аль-Фараби
Аннотация:
Процесс влажной химической обработки монокристаллических кремниевых пластин, включающий их текстурирование, представляет собой одну из ключевых стадий технологии изготовления высокоэффективных солнечных элементов. В рамках работы были изучены способы текстурирования монокристаллических кремниевых пластин для солнечных элементов. В результате исследований были определены оптимальные параметры технологии текстурирования для исследуемых образцов, а также определен основной вид травителя для процессов текстурирования, представляющий собой раствор KOH с изопропанолом.
Ключевые слова:
фотовольтаика, кристаллический кремний, HIT, фотоэлемент, текстурирование, влажная химия, СЭМ.
Поступила в редакцию: 30.12.2019 Исправленный вариант: 05.03.2020 Принята в печать: 05.03.2020
Образец цитирования:
Н. А. Чучвага, Н. М. Кислякова, Н. С. Токмолдин, Б. А. Ракыметов, А. С. Серикканов, “Проблемы при использовании травителя KOH-IPA для текстурирования кремниевых пластин”, ЖТФ, 90:10 (2020), 1758–1763; Tech. Phys., 65:10 (2020), 1685–1689
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/jtf5191 https://www.mathnet.ru/rus/jtf/v90/i10/p1758
|
Статистика просмотров: |
Страница аннотации: | 39 | PDF полного текста: | 53 |
|