|
Эта публикация цитируется в 27 научных статьях (всего в 27 статьях)
Обзоры
Механизмы возникновения напряжений в тонких пленках и покрытиях
А. Р. Шугуров, А. В. Панин Институт физики прочности и материаловедения СО РАН, Томск, Россия
Аннотация:
Проведен анализ литературных данных, посвященных причинам развития механических напряжений в эпитаксиальных, поликристаллических и аморфных пленках в процессе их формирования и при различных внешних воздействиях. Описан механизм возникновения внутренних напряжений при гетероэпитаксиальном росте пленок, обусловленных несоответствием постоянных кристаллических решеток пленки и подложки. Показана взаимосвязь между развитием напряжений несоответствия в гетероэпитаксиальных пленках и изменением характера их роста. Рассмотрены модели возникновения сжимающих и растягивающих напряжений в поликристаллических пленках вследствие формирования и коалесценции островков на начальной стадии их роста. Обсуждаются закономерности эволюции внутренних напряжений в сплошных пленках в зависимости от условий их осаждения, а также их химического состава, структуры и механических свойств. Рассмотрены механизмы развития внутренних напряжений в тонких пленках, связанных с образованием в них точечных дефектов, внедрением примесей и фазовыми превращениями, происходящими в процессе осаждения. Подробно рассмотрены внешние факторы, приводящие к возникновению напряжений в тонких пленках в процессе их хранения и эксплуатации.
Ключевые слова:
тонкие пленки, покрытия, напряжения, дефекты.
Поступила в редакцию: 31.01.2020 Исправленный вариант: 25.03.2020 Принята в печать: 03.05.2020
Образец цитирования:
А. Р. Шугуров, А. В. Панин, “Механизмы возникновения напряжений в тонких пленках и покрытиях”, ЖТФ, 90:12 (2020), 1971–1994; Tech. Phys., 65:12 (2020), 1881–1904
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/jtf5116 https://www.mathnet.ru/rus/jtf/v90/i12/p1971
|
Статистика просмотров: |
Страница аннотации: | 102 | PDF полного текста: | 64 |
|