Loading [MathJax]/jax/output/SVG/config.js
Журнал технической физики
RUS  ENG    ЖУРНАЛЫ   ПЕРСОНАЛИИ   ОРГАНИЗАЦИИ   КОНФЕРЕНЦИИ   СЕМИНАРЫ   ВИДЕОТЕКА   ПАКЕТ AMSBIB  
Общая информация
Последний выпуск
Архив
Правила для авторов

Поиск публикаций
Поиск ссылок

RSS
Последний выпуск
Текущие выпуски
Архивные выпуски
Что такое RSS



ЖТФ:
Год:
Том:
Выпуск:
Страница:
Найти






Персональный вход:
Логин:
Пароль:
Запомнить пароль
Войти
Забыли пароль?
Регистрация


Журнал технической физики, 2020, том 90, выпуск 12, страницы 1971–1994
DOI: https://doi.org/10.21883/JTF.2020.12.50112.38-20
(Mi jtf5116)
 

Эта публикация цитируется в 31 научных статьях (всего в 31 статьях)

Обзоры

Механизмы возникновения напряжений в тонких пленках и покрытиях

А. Р. Шугуров, А. В. Панин

Институт физики прочности и материаловедения СО РАН, Томск, Россия
Аннотация: Проведен анализ литературных данных, посвященных причинам развития механических напряжений в эпитаксиальных, поликристаллических и аморфных пленках в процессе их формирования и при различных внешних воздействиях. Описан механизм возникновения внутренних напряжений при гетероэпитаксиальном росте пленок, обусловленных несоответствием постоянных кристаллических решеток пленки и подложки. Показана взаимосвязь между развитием напряжений несоответствия в гетероэпитаксиальных пленках и изменением характера их роста. Рассмотрены модели возникновения сжимающих и растягивающих напряжений в поликристаллических пленках вследствие формирования и коалесценции островков на начальной стадии их роста. Обсуждаются закономерности эволюции внутренних напряжений в сплошных пленках в зависимости от условий их осаждения, а также их химического состава, структуры и механических свойств. Рассмотрены механизмы развития внутренних напряжений в тонких пленках, связанных с образованием в них точечных дефектов, внедрением примесей и фазовыми превращениями, происходящими в процессе осаждения. Подробно рассмотрены внешние факторы, приводящие к возникновению напряжений в тонких пленках в процессе их хранения и эксплуатации.
Ключевые слова: тонкие пленки, покрытия, напряжения, дефекты.
Финансовая поддержка Номер гранта
Министерство образования и науки Российской Федерации III.23.1.3
Работа выполнена в рамках государственного задания ИФПМ СО РАН, проект III.23.1.3.
Поступила в редакцию: 31.01.2020
Исправленный вариант: 25.03.2020
Принята в печать: 03.05.2020
Англоязычная версия:
Technical Physics, 2020, Volume 65, Issue 12, Pages 1881–1904
DOI: https://doi.org/10.1134/S1063784220120257
Реферативные базы данных:
Тип публикации: Статья
Образец цитирования: А. Р. Шугуров, А. В. Панин, “Механизмы возникновения напряжений в тонких пленках и покрытиях”, ЖТФ, 90:12 (2020), 1971–1994; Tech. Phys., 65:12 (2020), 1881–1904
Цитирование в формате AMSBIB
\RBibitem{ShuPan20}
\by А.~Р.~Шугуров, А.~В.~Панин
\paper Механизмы возникновения напряжений в тонких пленках и покрытиях
\jour ЖТФ
\yr 2020
\vol 90
\issue 12
\pages 1971--1994
\mathnet{http://mi.mathnet.ru/jtf5116}
\crossref{https://doi.org/10.21883/JTF.2020.12.50112.38-20}
\elib{https://elibrary.ru/item.asp?id=44367582}
\transl
\jour Tech. Phys.
\yr 2020
\vol 65
\issue 12
\pages 1881--1904
\crossref{https://doi.org/10.1134/S1063784220120257}
Образцы ссылок на эту страницу:
  • https://www.mathnet.ru/rus/jtf5116
  • https://www.mathnet.ru/rus/jtf/v90/i12/p1971
  • Эта публикация цитируется в следующих 31 статьяx:
    1. Jingwen Mao, Enhua Wang, Haochen Dang, Minggao Ouyang, Haoran Hu, Hewu Wang, Yadi Liu, Youpeng Chen, Languang Lu, Dongsheng Ren, “Reactive magnetron sputtered (Mn, Co)3O4 spinel coatings for superior element diffusion suppression and conductivity in ferritic stainless-steel interconnects of solid oxide fuel cells”, Surface and Coatings Technology, 498 (2025), 131829  crossref
    2. Ф.А. Усков, И.В. Верюжский, “ИЗУЧЕНИЕ МОРФОЛОГИИ ПОВЕРХНОСТИ ТОНКИХ ПЛЕНОК СПИНОВОГО БЕСЩЕЛЕВОГО ПОЛУПРОВОДНИКА CoFeMnSi, ПОЛУЧЕННЫХ МЕТОДОМ ИМПУЛЬСНОГО ЛАЗЕРНОГО ОСАЖДЕНИЯ”, NanoRus, 18:1 (2025), 48  crossref
    3. V. Tiron, M.A. Ciolan, G. Bulai, I. Burducea, D. Iancu, J. Julin, M. Kivekäs, C. Costin, “Deuterium retention in tungsten co-deposits with neon and argon inclusions”, Nuclear Materials and Energy, 39 (2024), 101656  crossref
    4. I. I. Tashlykova-Bushkevich, “Development of Submicrometer Conical Surface Morphology on Nanometer-Thick Al–Fe Alloy Films under Various Conditions of Ion-Assisted Deposition onto Glass”, J. Surf. Investig., 18:2 (2024), 333  crossref
    5. I. I. Tashlykova, “Formation of submicron conical morphology of the surface of nanometer-thick films of the Al–Fe alloy under various conditions of ion-assisted deposition on glass”, Poverhnostʹ. Rentgenovskie, sinhrotronnye i nejtronnye issledovaniâ, 2024, № 3  crossref
    6. U. A. Pilipenko, N. S. Kovalchuk, D. V. Shestovski, D. V. Zhyhulin, “Energy-Dispersive X-Ray Microanalysis – as a Method for Study the Aluminium-Polysilicon Interface after Exposure with Long-Term and Rapid Thermal Annealing”, Prib. metody izmer., 15:2 (2024), 104  crossref
    7. Alexander S. Pashchenko, Oleg V. Devitsky, Marina L. Lunina, Eleonora M. Danilina, Olga S. Pashchenko, Boris Ber, Vladimir I. Sakharov, “Epitaxial growth of GaInAsBi thin films on Si (001) substrate using pulsed laser deposition”, Vacuum, 227 (2024), 113372  crossref
    8. A. S. Pashchenko, O. V. Devitsky, M. L. Lunina, “Defects in GaInAsBi Epitaxial Films on Si(001) Substrates”, Semiconductors, 58:4 (2024), 339  crossref
    9. Evgenij S. Barbin, Tamara G. Nesterenko, Aleksej N. Koleda, Alena A. Talovskaia, Ivan V. Kulinich, Denis M. Mokhovikov, 2024 IEEE 25th International Conference of Young Professionals in Electron Devices and Materials (EDM), 2024, 40  crossref
    10. A. S. Babushkin, A. N. Kupriyanov, “Molecular Dynamics Study of Reversible Relaxation of Compressive Mechanical Stress in Polycrystalline Metal Films after the Interruption of Their Deposition”, Tech. Phys., 69:5 (2024), 1089  crossref
    11. Aditya Kushwaha, Neetu Raj Bharti, Anuj Sharma, Sanjay Kumar Kedia, Govind Gupta, Neeraj Goel, “Enhanced NO2 Gas Sensing in Nanocrystalline MoS2 via Swift Heavy Ion Irradiation: An Experimental and DFT Study”, ACS Sens., 2024  crossref
    12. V. A. Pilipenko, N. S. Kovalchuk, Ja. A. Solovjov, D. V. Shestovski, D. V. Zhyhulin, “The Influence of Rapid Heat Treatment During the Formation of Aluminum-Polysilicon Contacts on the Electrical Parameters of CMOS Microcircuits”, Doklady Belorusskogo gosudarstvennogo universiteta informatiki i radioèlektroniki, 22:5 (2024), 5  crossref
    13. Zhenghui Fan, Bin Zhou, Xiaojuan Lu, Shujie Tie, Ruihan Yuan, Siyin Dong, Aiping Zhang, Xiaojia Zheng, “Thermal expansion regulation of metal halide perovskites for robust flat-panel X-ray image detectors”, Device, 2024, 100617  crossref
    14. Zike Gao, Yuze Jiang, Yao Meng, Minshu Du, Feng Liu, “A Review of the Fabrication of Pinhole-Free Thin Films Based on Electrodeposition Technology: Theory, Methods and Progress”, Molecules, 29:23 (2024), 5615  crossref
    15. А.И. Арефьев, В.Н. Горнов, Л.Е. Пешкичева, О.С. Юрченко, Л.Е. Гусс, А.В. Савельев, А.П. Котов, “ИЗГОТОВЛЕНИЕ ЛАЗЕРНЫХ МИШЕНЕЙ МЕТОДАМИ ВАКУУМНОГО НАНЕСЕНИЯ ПОКРЫТИЙ”, NanoRus, 16:5 (2023), 256  crossref
    16. Alina D. Sytchenko, Pavel A. Loginov, Evgeny A. Levashov, Philipp V. Kiryukhantsev-Korneev, “Thermal Stability of Oxidation-Resistant Ta-Zr-Si-B-N and Ta-Zr-Si-B-C Coatings under In Situ TEM Heating and Vacuum Annealing”, Applied Sciences, 13:18 (2023), 10440  crossref
    17. Dongchang Hou, Lifeng Wang, Jianwei Yan, “Vibration analysis of higher-order nonlocal strain gradient plate via meshfree moving Kriging interpolation method”, Engineering Structures, 297 (2023), 117001  crossref
    18. Ming Sun, Chao Zhang, Ruhan Ya, Hongyu He, Zhipeng Li, Wenhuai Tian, “Synergistic Effects of 2-Butyne-1,4-Diol and Chloride Ions on the Microstructure and Residual Stress of Electrodeposited Nickel”, Materials, 16:9 (2023), 3598  crossref
    19. Zeyu Zhu, Yusi Wang, Yuting Pan, Yu Shao, Junren Wen, Haiqi Gao, Tao Liang, Yuchuan Shao, Weidong Shen, Chenying Yang, “Scratch-resistant antireflective coating for mid-wave infrared band”, Infrared Physics & Technology, 133 (2023), 104807  crossref
    20. Ya. Yu. Matyash, A. V. Pavlenko, S. P. Zinchenko, G. N. Tolmachev, L. I. Kiseleva, A. P. Kovtun, D. V. Stryukov, B. Ya. Sevastyanov, “Ferroelectric properties of Sr0.5Ba0.5Nb2O6 thin films grown on a Si(001) substrate by RF cathode sputtering”, Ferroelectrics, 604:1 (2023), 135  crossref
    Citing articles in Google Scholar: Russian citations, English citations
    Related articles in Google Scholar: Russian articles, English articles
    Журнал технической физики Журнал технической физики
    Статистика просмотров:
    Страница аннотации:129
    PDF полного текста:80
     
      Обратная связь:
    math-net2025_02@mi-ras.ru
     Пользовательское соглашение  Регистрация посетителей портала  Логотипы © Математический институт им. В. А. Стеклова РАН, 2025