|
Эта публикация цитируется в 2 научных статьях (всего в 2 статьях)
Физическая электроника
Влияние толщины гидрогенизированных углеродных пленок, легированных кремнием и кислородом, на свойства их поверхности
А. С. Гренадёров, А. А. Соловьев, К. В. Оскомов Институт сильноточной электроники СО РАН, г. Томск
Аннотация:
Получены гидрогенизированные углеродные пленки, легированные кремнием (11.9 $\pm$ 0.4 at.%) и кислородом (1.7 $\pm$ 0.1 at.%), толщиной 0.5–7 $\mu$m на подложках из титана марки ВТ6 и кремния в плазме несамостоятельного дугового разряда с накаленным катодом. Исследована зависимость твердости, внутренних напряжений, морфологии поверхности, смачиваемости, а также поверхностного потенциала полученных пленок от их толщины. Показано, что увеличение толщины пленки способствует повышению допустимой нагрузки на материал и его твердости. При этом пленки обладают низкими внутренними напряжениями (менее 600 MPa), а краевой угол смачивания с водой составляет 75–80$^\circ$. Установлено, что увеличение толщины пленки приводит к повышению отрицательного поверхностного потенциала от 50 до 670 mV.
Ключевые слова:
алмазоподобный углерод, $\alpha$-C : H : SiO$_{x}$-пленки, твердость, внутренние напряжения, поверхностный потенциал.
Поступила в редакцию: 15.06.2020 Исправленный вариант: 15.07.2020 Принята в печать: 21.07.2020
Образец цитирования:
А. С. Гренадёров, А. А. Соловьев, К. В. Оскомов, “Влияние толщины гидрогенизированных углеродных пленок, легированных кремнием и кислородом, на свойства их поверхности”, ЖТФ, 91:1 (2021), 145–151; Tech. Phys., 66:1 (2021), 139–144
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/jtf5112 https://www.mathnet.ru/rus/jtf/v91/i1/p145
|
|